マイクロレールプローブ冷熱台

HCP421V-MP型マイクロレールプローブ冷熱台単独で使用することもでき、顕微鏡/分光計を組み合わせて使用することもできます。これは-190℃~ 400℃の範囲内で温度を制御することができ、同時にプローブ電気試験、光学観察、サンプルガス環境制御を可能にする。プローブ台の上蓋と底殻は真空引き可能な密封室を構成し、窒素などの保護ガスを内部に充填して、サンプルが負の温度で霜を結んだり、高温で酸化したりするのを防止することができる。

マイクロレールプローブ冷熱台機能の特徴：

顕微鏡/分光計に使用できるミニ温度制御プローブ台

-190℃~ 400℃のプログラマブル温度制御（負温度には液体窒素冷却システムが必要）

直径26 mm加熱領域

真空引き可能なキャビティ、保護ガスを入れて使用することもできます

モジュラー設計、自由に組み合わせることができる

*独立した4-8独立プローブをアップグレードでき、デバイスの外部からプローブを移動して点針を行うことができ、温度制御器やコンピュータソフトウェアから制御でき、ソフトウェアSDKを提供できるSMA継手BNC四プローブ、手動点針

*pAのレベルテスト用の3同軸インタフェース（オプション）

*カスタマイズまたは変更が可能で、詳細は上海恒商にお問い合わせくださいデバイスの外部からプローブを移動して点針を行うことができる独立した4つのプローブ

温度制御パラメータ

温度範囲-190℃~ 400℃（負の温度には液体窒素冷凍システムが必要）

センサ/温度制御方式100Ω白金RTD/PID制御（LVDCノイズ低減電源を含む）

最大加熱/冷房速度30℃/min

最小加熱/冷房速度±0.01℃/min

温度分解能0.01℃

温度安定性±0.05℃（>25℃）、±0.1℃（<25℃）

ソフトウェア機能は温度制御速度を設定でき、温度制御プログラムを設定でき、温度制御曲線を記録できる

電気パラメータ

プローブのデフォルトはレニウムタングステンマテリアルのベンドプローブ*その他の種類のプローブを選択可能

プローブホルダのリニアガイドレールベースはレバー式プローブホルダと結合し、移動が柔軟で、点針の力度がより大きく、電気接触性がより良い

各プローブホルダーがサンプル領域上の任意の位置に点を打つことができる点針手動点針

プローブインタフェースのデフォルトはSMA継ぎ手からBNCへの変換

*キャビティ内配線柱の増設が可能（サンプル配線）

試料メサ電位はデフォルトでは電気接地であり、電気サスペンション（バック電極として）を選択可能、3同軸インタフェースを選択可能

非磁性改造台体は非磁性材質で製造することができ、温度変化ホール効果プローブ試験に用いる

光学パラメータ

適用光路反射光路*別途透過光路モデル

窓片の取り外し可能な窓片と交換可能な窓片

最小対物レンズ作動距離8 mm*断面図におけるWD

透光孔台面にはデフォルトの透光孔がなく、透過光路をサポートするために透光孔を増設することができる

上カバー窓シート観察窓シート範囲φ27 mm、最大画角±45°*断面図中θ1

負温下窓シート除霜ブロー除霜管路

構造パラメータ

加熱領域/サンプル領域直径26 mm

試料空洞の高さ5.4 mm*試料の最大厚さはプローブによって決定される

サンプリングして上カバーを開けてからサンプルを入れてから点針し、カバーを閉めてからプローブを動かすことができない

雰囲気制御真空引き可能なキャビティ、保護ガスを充填して使用することもできる

ケーシング冷却は、ケーシング温度が常温付近に維持されるように循環水を通すことができる

取付方式水平取付または垂直取付

台体尺寸/重量 250 mm x 180 mm x 55 mm/2400g

構成リスト

基本配置HCP 421 V-MP温度制御プローブ台、mK 2000 B温度制御器

オプション部品の液体窒素冷凍ポンプ、循環水機、取付ブラケット、テストソーステーブル、真空システム、電気化学ワークステーション、メサ電気懸濁、サンプル接電リード

適用範囲

Instec冷熱テーブル、Instec温度制御プローブテーブル、Instec温度制御ウェハチャック、Instec冷熱平板、Instecカスタム温度制御装置の組み合わせに使用する

温度制御部品シリーズ

取付ブラケット：温度制御装置をユーザ機器に固定するためのもの

mK 2000 B温度制御器、InstecAPP温度制御ソフトウェアを含み、温度制御装置は必ず選択する

LN 2-SYS液体窒素冷凍システム：液体窒素ポンプ+液体窒素タンク+液体窒素ライン

外殻循環水冷システム、パルプ式温度制御装置必須

MITOシリーズの温度制御用顕微鏡カメラ、制御ソフトウェアを含む

LWDC 2長動作距離集光レンズ

真空システム：真空ポンプ+真空管路を含み、真空型温度制御装置に用いる

LN 2-SYS液体窒素冷凍システム

主に液体窒素ポンプと液体窒素タンクの2つの部分に分けられる。使用時には管路を用いて温度制御装置を液体窒素タンクと液体窒素ポンプの間に連結し、温度制御装置の加熱ブロック内に閉鎖式出入り管路を埋め、液体窒素ポンプはmK 2000 Bの制御を受けて抽気を行い、液体窒素タンク内から温度制御装置の加熱ブロックに液体窒素を吸引し、温度制御装置の能動的な降温を実現する必要がある。

ハウジング循環水冷システム

温度制御装置用のケーシング/シャーシの冷却。温度制御装置が加熱/冷却されると、筐体/台座の温度は非常に熱く/冷たく保たれ、周辺の人員設備や設備自体に危害を及ぼす。循環水で外殻温度を常温付近に保つことで、この災害を効果的に予防することができる。

mK 2000 B温度制御器

恒温、一定速度の温度変化、一時停止、プログラミング温度制御機能をサポートする。冷熱独立の多段PID制御、4セットの20段校正表を保存できるなどの特徴がある。独立した制御、またはInstecAPPソフトウェアからの制御が可能

温度分解能±0.001℃（サーミスタ），±0.01℃（RTD），±0.1℃（熱電対）

制御インタフェースUSB仮想シリアルポートオプションの他のインタフェース

電気ノイズを低減するためのオプションLVDCリニア調整可能な直流電源

温制御ソフトウェアInstecAPP、多言語SDKを提供可能

マウントブラケット

ユーザー設備のカスタマイズに対して、ホットテーブルの水平固定/垂直固定など、垂直光路/水平光路などのユーザー設備を適用することができる。通常、次のようなものがあります。

円環式（円形ステージ用）、平板式（方形ステージ用）、ステージ（装置ステージの代わりに使用）、縦型（水平光路用）