マグネトロンイオンスパッタ

GVC-2000P型マグネトロンイオンスパッタ製品特徴：
1、ワンクリック操作で、作業完了の提示音を備える。
2、めっき膜粒子が小さく、熱損傷がない。
3、ターゲットの交換は非常に簡単です。
4、特殊な密封構造で、ガラスが壊れにくい。
5、操作ウィザードを内蔵し、トレーニングなしで熟練した操作ができます。

金粒子サイズ（シリコンチップ金噴霧）電池ダイアフラム10万倍（白金噴霧）

GVC-2000P型マグネトロンイオンスパッタ技術方案

1.平面マグネトロンスパッタリングターゲットヘッドを用いてターゲットスパッタリングを行い、作業中にサンプルに熱損傷が発生しないようにする。

2.プロセッサーとしてARMを採用し、全自主知的財産権、拡張性が良く、オプション：

a）膜厚監視モジュール：所望のめっき膜厚を予め設定でき、作業中にめっき膜厚を正確に制御できる、

b）試料台加熱モジュール：加熱により膜層の緻密性及び基地との結合力を高めることができる。

3.7インチタッチ液晶ディスプレイ、解像度800×480、フルデジタル表示、

3.1設定可能：（1）スパッタ電流、（2）スパッタ時間、（3）ターゲット材料の種類（4）動作真空度、（5）作動ガス、（6）画面輝度などのパラメータ、

3.2表示可能：（1）スパッタ電流、（2）スパッタ残り時間、（3）動作真空度、（4）ターゲットの累計使用時間（5）設備の累計使用時間などのパラメータ。

4.スパッタ電流：2-100 mA連続調整可能、最小ステップ長は1 mA、

5.スパッタリング時間：1-999 s連続調整可能、最小ステップ長は1 s；

6.スパッタ真空：4-20 Pa連続調整可能、最小ステップ長は0.1 Pa；

7.スパッタリングターゲット：高純度白金ターゲット（純度4 N 9）を標準装備し、規格はφ57×0.12 mmである。スパッタリングターゲットとして金、銀、銅、金パラジウム合金などの金属を使用することもできる、

8.真空室：高透光性の高珪素ホウ素ガラスを採用し、寸法は約φ200×130 mm、

9.試料台：自転可能なステンレス鋼試料台、直径φ125 mm、回転速度4-20 rpm調整可能、

10.ターゲットパラメータ：システムは金、白金、銀、銅の空気とアルゴンガスに対する動作パラメータを提供し、直接使用することができる。同時に4種類のカスタムターゲットを提供し、ユーザーは自分のニーズに応じて作業パラメータを設定することができる、

11.プレスパッタリング：全自動制御のプレスパッタリングバッフルを備え、作業過程の安定した信頼性を確保する、

12.ワンタッチ操作：システムは自動的に抽気、インフレーション、パラメータ調整、プレスパッタリング、スパッタリングめっきなどの作業過程を完成することができる、スパッタリングが完了したら、真空ポンプを閉じ、システムは自動的に空気を入れて真空室内外の圧力を平衡させる、

13.スパッタ電流と真空度の二重インターロックを備え、安全で信頼性があり、いずれの条件でトリガすれば、システムは動作を停止し、誤操作による設備の損傷を防止することができる、

14.システムはピラニ真空ゲージを真空測定素子として採用し、

15.限界真空は1 Paより優れ、真空ポンプの抽気速度は1.1 L/sである、

16.リアルタイム曲線表示スパッタ電流と真空度機能を備え、ユーザーがシステムの動作状態を理解するのに非常に便利である、

17.専門的なターゲット交換構造を採用し、ツールを必要とせず、迅速なターゲット交換を実現することができる、

18.計器給電：AC 220±10%V、定格電力500 W。