GVC-2000 T高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置

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モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

GVC-2000 T高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置は操作しやすいマグネトロンイオンスパッタリング装置であり、自動化技術のコーティング機に市場で最も良い使用価値を与える商品である。非導電性サンプルの予備処理商品に使用され、3次元イメージング画面の解像度を向上させ、サンプルの導電率、電子電荷を低下させ、比較的敏感なサンプルに対する光線損傷を減少させる。

製品詳細

高真空磁控离子溅射仪

GVC-2000 T高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置操作しやすいマグネトロンイオンスパッタリング装置であり、自動化技術のコーティング機に市場で最も優れた使用価値を与える商品である。非導電性サンプルの予備処理商品に使用され、3次元イメージング画面の解像度を向上させ、サンプルの導電率、電子電荷を低下させ、比較的敏感なサンプルに対する光線損傷を減少させる。

一、説明

1、全自動知識製品、

2、熱損傷がなく、効率が高く、粒子度がより細かく、高分解能電子顕微鏡に適している。

二、基本原理

導電性原材料（例えば、Pt−Pd、Pt、Au、Pd）をサンプル表面上のデバイスに塗布する。それ以外に、非導電性サンプルは、透過型電子顕微鏡の下でデータの可視化を展開するために使用され、そしてサンプル表面をイオンビームの導入の危害から守り、電子デバイスの流動性を助けるために使用される。彼らはプラスチックフィルム型の電気レベルの発生としてもよい。

三、応用分野

1、高分解能走査電子顕微鏡サンプルの調製（実際の増幅倍数≧100 K）、

2、電極の製造−各種金属電極、ITO電極の製造が可能である。

四、設備配置と技術パラメータ

モデル&名称	GVC-2000 T高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置
しんくうシステム	タービン分子ポンプ（輸入）：ドイツのレボ90 i（単磁気浮上分子ポンプ、抽気速度90 L/s）旋盤式真空ポンプ：浙江飛越VRD-4（抽気速度は1.1 L/s）
しんくうそくてい	全レンジ複合真空ゲージ（インレット）：1.0 E 5 Pa-1 E-4 Pa
システム限界真空	≤5E-3Pa
スパッタ電源	マグネトロンスパッタリング電源、電力150 W
ゆうこうターゲット	すべての金属ターゲット、ITOターゲット
スパッタ電圧	300-600V,選択ターゲット、制御パラメータにより変化
スパッタ電流	0-200 mA連続調整可能、ステップサイズ5 mA
スパッタ時間	0-9999s,連続可変ステップ長1 s
操作インタフェース	7インチTFTカラー液晶タッチパネル、解像度800×480
操作方法	ワンタッチ操作
抽気タクト	15分未満
せいぎょモード	スパッタ電流と時間を設定するだけで、全自動制御プリスパッタリングバッフル（プリスパッタリング時間設定可）を備え、全自動制御
保護機能	ソフト・ハードウェアのインターロック、誤操作防止、電流、真空保護などを備える
サンプルテーブル直径	φ125mm，自転可能、自動手動制御可能、回転数4-40 rpm調整可能
しんくうチャンバ	高珪素ホウ素ガラス、規格寸法約φ200×130 mm
電源供給	220 V 50 Hzパワー800 W
寸法&重量	重量424（長）×345（深さ）×420 mm（高さ）、25 kg（正味重量）
れいきゃくほうしき	ないぶふうれい
オプション	試料台選択、膜厚制御、温度監視等