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北京格微計器有限公司
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GVC-2000マグネトロンイオンスパッタリング装置

ネゴシエーション可能更新01/27
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概要

GVC-2000マグネトロンイオンスパッタリング装置の粒子はより小さく、高倍画像観測に適し、電界放出/高分解能電界放出電子顕微鏡に適している。

製品詳細

GVC-2000マグネトロンイオンスパッタリング装置記述
  1. 基本的に温度上昇はなく、サンプル表面に熱損失はなかった。

GVC-2000磁控离子溅射仪 GVC-2000磁控离子溅射仪

GVC-2000サンプリング効果図その他のサンプリング設備効果図

上の2枚の画像はフィルター類サンプルの電子顕微鏡写真で、左側の画像はGVC-2000金噴霧後の電子顕微鏡観測図で、サンプルの形態は真実で完全で、右側の画像は他の設備の金噴霧後の電子顕微鏡観測画像で、熱損傷が深刻で、ほとんど同種サンプルと識別できないことがわかる。

  1. 粒子はより小さく、より高倍画像観測に適し、電界放出/高分解能電界放出電子顕微鏡に適している。

GVC-2000磁控离子溅射仪 GVC-2000磁控离子溅射仪

金粒子サイズ:6 ~ 10 nm

GVC-2000磁控离子溅射仪 GVC-2000磁控离子溅射仪

セラミック膜、めっき材料Pt、10万倍画像、粒子感フィルタ材料、めっき材料Pt、20万倍画像、粒子感がない。

  1. GVC-2000マグネトロンイオンスパッタリング装置低圧大電流スパッタリングは、より効率的である。