高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置

交渉可能更新01/27

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

GVC−2000 TD高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置は各種金属、単体、無機非金属薄膜を製造することができ、真空を破らない場合、多層複合膜の製造を実現することができる。

製品詳細

高真空磁控离子溅射仪

一、GVC-2000 TD高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置製品の優位性：

1、各種金属、単体、無機非金属薄膜を製造することができる、

2、真空を破らない場合、多層複合膜の製造を実現することができる、

3、ワンクリック操作、全自動制御、知能化程度が高い、

4、一致性、重複性が良い、

5、内蔵多重ターゲット材料の動作パラメータは、メッキ技術を模索する必要がない、

6、体積が小さく、構造がコンパクトで、非常にスペースを節約する。

　　二、GVC-2000 TD高真空マグネトロンイオンスパッタリング装置製品パラメータ：

外形寸法（本体）	424（L）×345（D）×420（H）	入力電源	220V/50Hz 1000W
スパッタターゲット 1	ちょくりゅうマグネトロンスパッタリング	ゆうこうターゲット	メタルターゲット
スパッタターゲット 2	むせんしゅうはマグネトロンスパッタリング	ゆうこうターゲット	無機非金属ターゲット
しんくうシステム	ターボ分子ポンプ+ロータリ真空ポンプ	くうしゅつそくど	90L/秒 + 1.1L/秒
しんくうそくてい	ふくごうしんくうゲージ	レンジレンジ	1E-3 ~ 1E5パ
しんくうチャンバ	φ 200×130mm 高ほう素シリコンガラス	抽気タクト	10 分（≤5E-3Pa）
サンプルテーブルサイズ	φ 90mm	サンプルテーブル切替	自動制御
スパッタターゲットサイズ	φ 57mm（厚さ 0.1-2mm）	さぎょうしんくう	0.1-2パ
操作インタフェース	7 インチ TFT タッチパネル	オペレーション言語	中国語（オプションの他の言語）
冷水機	小型デスクトップ冷凍機	冷水機の電力	180W
プリスパッタバッフル	標準全自動制御プリスパッタリングバッフル
膜厚計（オプション）	メッキ膜厚をリアルタイムに表示し、設定によりメッキ過程を制御し、精度を測定することができる 0.01nm、設定精度 0.1nm、単回設定範囲 1-999nm
膜厚計（オプション）
温度制御アセンブリ（オプション）	サンプルテーブル加熱モジュール 300℃/500℃
回転アセンブリ（オプション）	傾斜回転、惑星回転等
乗用車（オプション）	本体、無線周波電源、冷水機などを組み合わせ、全体性が良い
インストール環境	220V/10A 三孔ソケット1個、純度 4N 及び以上の高純アルゴンガス（出口圧力 0.12MPa）

類似製品推奨