ME−MApping分光偏光解析器

一、概要

ME-マッピング分光エリプソメータはカスタマイズ可能なMapping描画化測定分光エリプソメータであり、全自動Mapping測定モジュールを配置し、エリプソメータ、透過/反射率などのパラメータの測定を通じて、迅速にフィルム全基板膜厚及び光学パラメータカスタム描画化測定の特徴と分析を実現する。

■全基板偏光解析描画化測定ソリューション、

■製品設計及び機能モジュールのカスタマイズをサポートし、ワンタッチ描画測定；

■Mappingモジュールを配置し、全基板カスタム多点位置決め測定能力、

■豊富なデータベースと幾何構造モデルライブラリ、強力なデータ分析能力を保証する。

二、製品の特徴

■重水素ランプとハロゲンランプの複合光源を用いて、スペクトルは紫外から近赤外範囲（193-2500 nm）をカバーする、

■高精度回転補償器変調、PCRSA配置、Psi/Deltaスペクトルデータの高速収集を実現する、

■全基板のカスタム多点自動位置決め測定能力を備え、全面膜厚測定分析報告書を提供する、

■数百種類の材料データベース、多種のアルゴリズムモデルライブラリは、現在のほとんどの光電材料をカバーしている。

三、製品の応用

ME-MAppingはOLED、LED、光起電力、集積回路などの工業応用に広く応用されており、大型全基板膜厚、光学定数及び膜厚分布の迅速な測定と特徴付けを実現している。

オプション部品

技術仕様