IRE-200膜厚テスタ

一、概要

IRE-200型光学フィルム厚さ測定器赤外スペクトルを用いてフーリエ変換により高速分析を行い、主にSi、GaAs、InP、SiC、GaNなどの各種エピタキシャルシートのエピタキシャル層厚測定に応用する超高精度のエピタキシャル層厚測定装置である。

■シングルスロー/ダブルスローなど多くのモード選択サポート、

■カスタムmapping機能、

■高検出速度：Si標準エピタキシャルシート測定25点≦3 min、

■高検出精度：≦0.01 um。

二、製品の特徴

1）設備は高性能光源モジュールを採用し、光源の安定性が良く、信号対雑音比が高く、カバー範囲が7800-350 cm^-1。

2）自主開発アルゴリズムソフトウェアを組み合わせて、正確かつ迅速に測定結果を得ることができる。

3）自主開発したmapping運動台と組み合わせて、位置決めが正確で、測定速度が速い。

三、製品の応用

IRE−200は半導体業界におけるSi、SiC、GaAs、InP、GaNなどの基材上のエピタキシャル層の厚さの測定に広く応用されている。

SiC EPI測定例

技術仕様