CIFプラズマ気化グラフト装置

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概要

CIFプラズマ気化グラフト装置（CPV−G）はプラズマ表面処理装置の付属設備であり、主に液状原料を気化し、一定の流量でプラズマ表面処理装置の反応チャンバ内に入力し、材料表面のグラフトと堆積を行うために用いられ、各種等のイオン処理装置に適している。

製品詳細

CIFプラズマ気化グラフト装置製品の特徴

取り外し可能なサンプルはキャビティ、ガス混合キャビティを加熱し、異なる液体サンプルの洗浄と交換を容易にする。

ガス混合チャンバはポリテトラフルオロPTFE材質を採用し、不活性性が良く、耐酸アルカリ、保温性能が良い。

管路保温加熱システムは気化後の気体が凝縮せず、通気を円滑に保つことができる。

試料加熱室及び管路の洗浄が便利で、管路中の各種試料の残留を自動的に洗浄することができる。

3ウェイガス設計は、より技術的な要求に合致している。1つのガスが加熱チャンバに入り、1つのガスがガス混合チャンバに入り、1つのガスがグラフトされる。

双流量計の設計、制御が正確である。

CIF等离子体汽化接枝仪

CIFプラズマ気化グラフト装置技術パラメータ

サンプルタンクサイズ：Φ95×105 mm

サンプルタンク容積：250 ml

PTFEガス混合チャンバ容積：30 ml

温度制御範囲：RT-150°C

流量制御：デュアル流量弁制御、0-10 L/min

配管システム：2路給気、1路給気

電源：220 V/50/60 Hz/200 W

本体サイズ：30 cm（W）×20 cm（D）×24 cm（H）。

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