CIFイオンスパッタリング装置

CIFイオンスパッタリング装置貴金属及び合金材料のめっきに特化して開発された高精度設備であり、＊制御技術と人間化設計を一体化し、高効率かつ安定したスパッタリングめっき技術を実現することができる。科学研究実験と精密製造分野に広く適用され、ユーザーに高品質、一致性を提供する高いのめっき効果があります。

製品特徴：

uインテリジェントタッチ、データ表示：7インチカラータッチスクリーン、中国語と英語のインタフェースをサポートし、リアルタイムでプロセスパラメータを監視し制御する、20組のフォーミュラプログラムを保存でき、データは全過程で遡及でき、プロセスの標準化と重複性を確保する。

u柔軟な操作、デュアルモード対応： PLC制御システムは、手動/自動切替をサポートし、多様な応用シーンに適応し、操作がより自由である。

uガス制御、プロセス互換性が強い：ガス流量の自動調整、質量流量計を内蔵し、ガス流量を制御する（0-500sccm），酸素、アルゴン、窒素などの多種のプロセスガスを支持し、多様なめっき膜の需要を満たす。

u均一めっき膜、一致性が高い：サンプルテーブルは回転可能（0-50 rpm調整可能）、高さ調整機能（15-50 mm）を備え、膜層の均一性と一致性を著しく向上させ、多種のターゲットに適合する。

u人間的な設計、操作が快適：60°傾斜角操作パネルは、人間工学に符合し、界面がはっきりして簡潔で、操作が流暢で便利である。

u低温処理、サンプルに損傷がない：めっき中のサンプル温度は40〜50℃で、熱損傷と熱酸化を効果的に回避し、サンプルの固有特性を保持する。

u汚染を避けるために清潔に保護する：ガス再充填パージとHEPA高効率ろ過システムは、汚染物の残留を防止し、めっき環境のクリーンで信頼性を確保する。

u多重安全保障：ハッチドアは自動的に電源が遮断され、複数の安全保護メカニズムが内蔵されており、より安心して使用できます。