CIF新世代Flash-Evacシリーズフラッシュ成膜器

CIF Flash-Evacシリーズフラッシュ成膜器は「高速溶媒揮発誘導成膜」原理に基づいて開発、生産された*フィルム製造設備真空環境により溶媒の蒸発を加速させ、有機小分子、ポリマー、メタルハライドラントなどの溶質を駆動して急速に自己組織化して均一なナノ薄膜を形成する。設備は知能制御、高効率成膜と広範な互換性などの優位性を備え、ペロブスカイト太陽電池、OLED、フレキシブルな電子とセンシングなどの最先端分野。

コア機能

uインテリジェント統合制御：7インチカラータッチスクリーン、中国語と英語のインタフェースをサポートし、リアルタイムでプロセスパラメータを監視し、調節し、20組のレシピを保存でき、プロセスの全過程を遡ることができる。

uデュアルモードの柔軟な操作：統合PLC制御システムは、手動/自動ワンタッチ切り替えをサポートし、多様な研究開発と量産シーンに適応する。

u高品質成膜性能：真空環境は高速溶媒の揮発と溶質の秩序配列を促進し、緻密で均一で低欠陥の高品質薄膜を形成する。

uガスと環境制御：内蔵質量流量計（0–500 sccm），不活性ガス保護とHEPAろ過を支持し、有効に汚染を防止し、高基準のクリーンプロセスの需要を満たす。

u広範な互換性と高い拡張性：複数の基板（シリコンウェハ／ガラス／ITOなど）と機能層（電子／正孔輸送層など）を堆積し、デバイスの性能と安定性を最適化する。オプションの統合加熱テーブル（RT-200°C）。

uプロセス均一性：温度、真空度と揮発速度を調節し、大面積の均一成膜を実現し、多層デバイスの相互溶解問題を解決する。

u安定した信頼性のある動作：設備の構造は安定しており、長時間の連続作業が可能であり、プロセスの一貫性と繰り返し性を保障する。