ツァイスZEISS集束イオンビーム電子顕微鏡Crossbeamシリーズ

ツァイスZEISS集束イオンビーム電子顕微鏡Crossbeamシリーズ詳細：

ツァイスZEISS集束イオンビーム電子顕微鏡Crossbeamシリーズ新しいFIB加工方法を探索する--大サイズからナノ精度切断まで：

lon−sculptor FIB鏡筒の低電圧での優れた性能を十分に利用してサンプル品質を向上させた。精密試料の非晶質化の程度を下げ、薄く研磨した後に優れた試料効果を得ることができ、同時にビームフローを迅速に切り替える利点があり、FIBの応用を加速する。

FIB-SEM 3 Dアプリケーションの収集速度を2倍にするために、優れたビームフロー性能を選択することもできます。画像収集のプロセスは非常に安定しており、正確で再現性の高い結果を得ることができます。鏡筒設計により、その束流範囲は5つの数段、すなわち1 pAから100 nAにまたがる。100 nAまでの束流は材料を迅速かつ正確に除去し、切断プロセスを完了すると同時に、低束流下では3 nm未満の高FIB分解能を得ることができる。2μAの放出電流で動作すると、ガリウム集束イオンビーム源、すなわちLMIS（液状金属イオン源）の通常の使用寿命は3000 uAhを上回った。自動イオン源加熱機能により、Crossbeamシリーズ製品は超長時間の実験を行うことができる。