科学研究型プラズマドライエッチング（ICP/CCP）システム

PLUTO-E 100型科学研究型プラズマドライエッチング（ICP/CCP）システム低コストで科学研究機関の実験室に適したデスクトップ型科学研究設備であり、システム全体の目的は4寸以下のサンプルにドライエッチングを行うことである。このシステムは反応チャンバ、真空システム、RF無線周波数システム、反応ガス回路システム、電気機器制御、ソフトウェアプログラムなどのいくつかのサブシステムを含む。

システム全体は全自動化ソフトウェア制御であり、recipeの作成をサポートし、複数のプロセスステップの自動実行をサポートする能力である。設備にはインターロック、停電記憶、自動警報、分子ポンプ保護などの安全保護機能がある。デバイスの柔軟性を確保するためにアップグレードスペースを確保します。

科学研究型プラズマドライエッチング（ICP/CCP）システム技術パラメータ：

1.反応チャンバ：T 6060アルミニウム合金、4寸及び以下のサンプルに適合する、

2.真空システムは分子ポンプ及び機械ポンプから構成され、真空測定システムは容量式圧力計を採用する、

3.設備は1000 wの13.56 MHzの無線周波数電源、自動無線周波数整合器、及び無線周波数ケーブル及び専用無線周波数コネクタを備えている、

4.4ウェイの反応ガスを配合し、最大6ウェイにアップグレードする。

5.ICPプラズマエッチングマシンの一連のシステムは自動化制御システムであり、この自動化システムはPLC、工業制御機及び制御ソフトウェアを通じて共同で実現される。

科学研究型プラズマドライエッチング（ICP/CCP）システム応用分野：

マイクロエレクトロニクス製造：プラズマエッチングは集積回路とチップ製造に広く応用され、トランジスタ、コンデンサなどの回路中の微細構造、およびチップ上の電子機器の修復または調整に用いられる。

鄒光学デバイスの製造鄒：プラズマエッチング技術は光ファイバ、光導波路などの光学デバイスの製造に用いることができる。プラズマのエネルギーと密度を制御することにより、光学材料上に所望の構造と形状を形成することができる。

鄒MEMS製造鄒：プラズマエッチングマシンはマイクロ電気機械システム（MEMS）中の微細構造及びデバイス、例えばマイクロセンサ、無線通信装置及びマイクロ機械運動システムなどを製造するために使用することができる。

鄒レチクル製造鄒：プラズマエッチングはレチクル上のパターンを製造し、レチクル上の微細構造を修復または修正するために使用される。

生物医学の応用：プラズマエッチングは生物医学分野、例えばマイクロフロー制御チップ、生物チップなどの製造に用いることができ、ミクロ構造の製造を実現し、生物分析と実験に用いる。

鄒ナノテクノロジー鄒：プラズマエッチングはナノチューブ、ナノ粒子などのナノ材料とナノ構造の製造に用いることができ、プラズマの成分と反応条件を制御することによって、材料に対する正確な修飾と制御を実現する。

鄒ウエハ製造鄒：ウエハ製造過程において、プラズマエッチング機は四フッ化炭素ガスを利用してシリコンウエハの線エッチングを行い、窒化シリコンエッチングとフォトレジストの除去を行う。ガス成分を調整することにより、エッチング深さを正確に制御し、ミクロン級の高精度エッチングを実現することができる。