プラズマ増強化学蒸着（PECVD）システム

1.柔軟な堆積能力

·シリコンベースの堆積プロセス−酸化物、窒化物、酸窒化物、アモルファスシリコン（a-Si）、炭化ケイ素（SiC）

·研究と開発

·プロトタイプ作成

·小ロット生産-フォトニクス、ソリッドステート照明、MEMSおよびナノテクノロジー

·応用分野：層間絶縁層、パッシベーション層、封止層、マスク層、反射防止層

2.パフォーマンスの価値

1.大型手動積載ステージ（406mm）

2.優れたクリーン度

3.高均一性

4.高スループット

5.信頼性の高いソフトウェア

6.コンパクトな敷地面積

7.コスト効果がある

8.メンテナンスが容易

9.業界トップコンポーネントの採用

3.検証済みソリューション

・幅広い「鍵渡し」技術

・最適化されたシャワーヘッドによる高フィルム均一性の実現

・高基準の利用率と信頼性：一級（Tier I）OEMコンポーネント、高速真空引き、選択可能なその場終点検査を採用し、過度な洗浄を避ける

・認可されたサービスとサポート

・低周波またはヘリウム希釈による応力制御