KLA四プローブ抵抗率測定器

KLA四プローブ抵抗率測定器KLAの抵抗率測定製品です。半導体製造からウェアラブル技術の実現に必要なフレキシブル電子製品まで、薄膜抵抗監視は導電性薄膜を使用するあらゆる業界にとって非常に重要である。KLA R 54四プローブ抵抗率測定器は機能的に金属薄膜均一性測定、イオン注入特徴とアニール特性、薄膜厚と抵抗率測定及び非接触薄膜厚測定に対して最適化を行った。

利点：

• テストポイント長方形、線形、極座標、カスタム構成などのカスタム編集

• オプションで最大300 mmの円形またはA 4（210 mm*297 mm）サンプルを収容可能

• 導体と半導体薄膜の抵抗、10桁の範囲が適用可能

• 4プローブ（4 PP）または非接触渦（EC）モードを構成可能

• 閉塞システムは光感受性または環境感受性サンプルの測定を容易にする

• 15 mm最大サンプル高さをサポート

• 高精度X-Yプラットフォーム

• 小さなECプローブサイズ

• 自動ECプローブ高さ誤差補正

• KLA薄膜抵抗測定プローブと互換性があり、

測定原理：

4点プローブ（4 PP）は、4つの導電性プローブからなるプローブであり、測定導電層と基板との間に非導電抵抗バリア層がある制御可能な力で導電層表面に接触する。標準的に測定されるプローブ構成は、2つの外側プローブの間に電流を印加し、2つの内側プローブの間で電圧を測定する。薄膜抵抗を測定する場合、導電層の厚さは2つのプローブ間の距離の1/2未満でなければならない。KLAはR 54四プローブ抵抗率測定器に二モード技術を開発し、この技術は間隔プローブ上の電圧を測定することができ、境界効果動的補正とプローブ間隔誤差補償機能を配置した。KLAは、様々な表面材料の特性特性特性評価測定を適用し、最適化するための豊富なプローブタイプを提供し、ほとんど任意の導電性薄膜またはイオン注入層に使用することができる。

電気渦電流（EC）は非接触導電性薄膜測定技術である。コイルを介して時変電流を印加して時変磁場を発生させ、その磁場が導電表面に近づくと、その表面に誘導時変電流（渦電流）が発生する。これらの電気渦電流は逆に、試料の抵抗に比例した信号変化をもたらすプローブコイルに結合された自身の時変磁場を発生する。KLAの特殊なEC技術は、単一のプローブがサンプルの上部に位置し、各測定点のプローブ高さを動的に調整することができ、これは測定の正確性と繰り返し性にとって非常に重要である。EC法はプローブサイズや表面酸化の影響を受けず、柔らかいものや4 PP接触法の測定に適さない他のサンプルに非常に適している。

業界アプリケーション：

アプリケーション：

一、金属薄膜の均一性

金属薄膜の薄膜抵抗均一性は素子性能を確保するために非常に重要であり、ほとんどの金属薄膜は4 PPとECで測定することができる。ECは厚い高導電性金属膜、4 PPは薄い金属膜（>10Ω/sq）に適していることを推奨しているが、いずれにしても4 PP/ECは高い相関性を示しており、いずれの方法を用いても正確な結果を得ることができる。KLA R 54四プローブ抵抗率測定器の抵抗分布図は薄膜均一性、堆積品質及びその他のプロセス変動を特徴づけることができる。

二、イオン注入特性評価

4 PP法はイオン注入プロセスを測定する標準的な測定技術である。熱アニーリング後にイオン注入分布を試験することにより、ランプ故障、ウエハ/プラットフォーム接触不良または注入量変化によるホットスポットとコールドスポットを識別することができる。シリコンイオン注入層には、ドーピングイオンの活性化に熱アニーリングプロセスが必要である。

三、薄膜厚/抵抗率/薄膜抵抗

収集されたウエハデータにより、KLA R 54四プローブ抵抗率測定器は薄膜抵抗、薄膜厚または抵抗率分布図を描画することができる。材料の抵抗率を入力することにより、膜厚分布を計算し、表示することができます。あるいは膜厚データを入力することにより、抵抗率分布を計算することができる。

四、データ収集と可視化

KLA R 54四プローブ抵抗率測定器のRSMapperソフトウェアはデータ収集と分析機能を結合し、直感的な可視化インタフェースを持っている。すなわち、デバイス自体に使用することも、オフラインで使用することもできる。ソフトウェアが持参したさまざまな座標レイアウトツールは、データ測定ポイントを簡単に設定するのに役立ちます。

製品仕様：

KLA四プローブ抵抗率測定器測定図：