電界放出走査電子顕微鏡

ツァイスGeminiSEM 460

FE−SEMはサブナノイメージング、分析、サンプルの柔軟性の高い要件を満たしている

ツァイスGeminiSEMは、サブナノメートルレベルの解像度のイメージングを容易にするのに役立ちます。優れたイメージングと分析技術により、FE-SEM（電界放出走査電子顕微鏡)が鬼に金棒。革新的な電子光学システムと新しいサンプル倉庫設計を採用し、操作がより簡単になるだけでなく、用途がより柔軟で多様になるだけでなく、より高い画像品質をもたらすことができます。1 kV未満のサブナノスケール画像を水浸し対物レンズなしで撮影できる。蔡司Gemini電子光学系の3つの設計を探索する：

l分析テストプラットフォームの理想的な選択——蔡司GeminiSEM 360

l効率的な分析を実現する——蔡司GeminiSEM 460

l表面イメージングの新基準――蔡司GeminiSEM 560

ジェミニスEM 460電界放出走査電子顕微鏡）要求の厳しい分析タスクに対応するために設計されており、効率的な分析と自動化されたワークフローを実現することができます。顕微鏡の分野で課題に満ちた分析タスクに直面している場合、Gemini 2鏡筒はあなたの力を助けることができ、イメージングと分析条件をシームレスに切り替えることができます。

✔高分解能と高電流を両立

✔自動ワークフローのカスタマイズ

✔より多くの可能性をもたらす

高分解能と高電流を両立

✔ GeminiSEM 460は、要求の厳しい分析タスクに対応するために設計されており、効率的な分析と自動化されたワークフローを実現することができます。

✔ 高解像度イメージングと分析を迅速に実行する：Gemini 2鏡筒を使用して、低ビーム流-低電圧動作条件から高ビーム流-高電圧動作条件（またはその逆）にシームレスに切り替える。

✔ 同時に、複数の検出器を用いて任意のサンプルを多方位的に特徴づけることができる。

✔ 多機能サンプルボックスを利用して効率的な分析を行い、適切な分析プローブを選択することもできます。

✔ 新しいVPモードでは、電流を高くして、4000ドット/秒までのカウント率のEBSDイメージングを得た。

✔ 2つの幾何学的に対称なEDSポートと共平面式EDS/EBSD配置により、化学成分と結晶方位を検出し、高速で影のないEDS/EBSDイメージングを実現することができる。

自動ワークフローのカスタマイズ

✔ このような強力な分析能力があるため、ワークフローの自動化が重要になります。ツァイスのPythonスクリプトAPIを使用して、自動実験プロセスを作成して構成できます。

✔ お客様のニーズに合わせて実験プロセスを修正し、必要な効果をカスタマイズします。

✔ STEM断層スキャンイメージング機能を十分に利用：自動傾斜と回転機能と特徴追跡機能を効果的に結合し、すべての整列された画像を専属の3次元再構築ソフトウェアに送信した後、ナノスケールの解像度を持つ3次元断層イメージングを構築することができる。

✔ 材料の許容限界をテストする必要がある場合は、蔡司はその場加熱と引張実験を自動化する実験プラットフォームを提供し、実験中に材料が加熱と引張下にあることを自動的に提示し、応力ひずみ曲線をリアルタイムに描画することができます。

より多くの可能性をもたらす

✔ Gemini 2鏡筒の設計を基礎として、材料と生命科学分野に使用する場合、超高可変電流密度条件下での分析能力は著しく向上し、低電圧条件下でもそうだ。

✔ さまざまなアクセサリを活用してシステムをアップグレードできます。例えば、分析装置を追加するだけでなく、その場実験装置、冷凍イメージング、ナノプローブ装置を用いて多機能サンプルビンを構成することもできる。ストレージを使用すると、ラボ内のさまざまなデバイスで収集されたデータに接続でき、プロジェクトを集中的に管理できます。

✔ デバイスを使用している間は、さまざまな構成を容易に組み立て、アップグレードすることができます。

✔ すべてのGeminiSEMは蔡司ZEN core生態系に参加しており、この機能によりZEN Connect、ZEN Intellesis、ZENの分析モジュールにアクセスし、レポートの生成とGxPワークフローの実現を支援します。

迅速な分析の活用

すべてのサンプルの包括的なキャラクタリゼーションには高性能なイメージングと分析が必要であり、また、デバイスの設定と操作の容易さを求めるユーザーが増えています。Gemini 2光学システムはこれらのニーズを満たすことができます。

高解像度イメージングと解析をシームレスに切り替え可能

・GeminiSEM 460は、二重集光レンズを有するGemini 2光学系を備える。

・ビームスポットサイズを最適化しながら、電子ビームの電流強度を連続的に調整する。

・低ビームストリームの高解像度イメージングと高ビームストリームの解析モードとの間でシームレスな切り替えが可能である。

●イメージングパラメータを変更した後、キャリブレーションを行う必要がなく、時間と労力を節約する。

柔軟で効率的な作業を維持

✔ 柔軟な維持：高電子ビームエネルギー密度を使用して、低ビーム流と高ビーム流の下で高解像度イメージングと分析を行い、選択した電子ビームエネルギーに影響されません。

✔ 試料は磁場に曝されない：大観察視野内の歪みのないEBSDパターンと高分解能イメージングを実現した。

✔ 試料の傾斜回転時に電子光学系の性能に影響を与えず、磁性試料も容易に画像化できる。

✔ 試料に適した消荷電モード：局所電荷補償、チャンバ内可変圧力、またはNanoVPを選択します。

三次元STEM断層スキャンイメージング

これで、FE-SEM上の自動STEM断層スキャンイメージングを心のままに行うことができます。APIを使用して、STEM傾斜シリーズを自動的に収集するスクリプトは、優れた中心の回転、ステージ傾斜移動、およびオートフォーカスと画像収集を実行することができます。また、特徴追跡は傾斜系列全体のオフセットを補償し、2つの画像間のドリフトを最小値約50 nmに維持することができる。STEMサンプルキャリッジはキャリッジを60°傾斜させ、180°回転させることができ、aSTEM検出器はすべてのニーズをカバーすることができる。最後に、高度なリファクタリングキット（ART）開発チームからの3 Dリファクタリングソフトウェアは、この出力を使用してサンプルの3 Dモデルをレンダリングします。