12インチ槽式洗浄装置

1. 製品の概要：

12インチ槽式洗浄装置Pinnacle 300プラットフォームは集積回路、パワー半導体、基板材料、シリコンベースマイクロディスプレイ分野の洗浄プロセスに適している。この機台は主に伝送モジュール、プロセスモジュール、薬液供給システム、電源キャビネットなどから構成されている。転送モジュールはウエハを位置に転送し、同時に50枚を転送することができ、プロセスモジュールは洗浄とエッチングに用いられ、薬液供給モジュールは高精度薬液配合、加熱、供給、濃度モニタリングに用いられる。

2. 装置アプリ：

ウェハサイズ

12インチ

適用材料

フォトレジスト、単結晶シリコン、多結晶シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン、金属膜、金属酸化物

適用プロセス

ストーブ前、エッチング/研磨後の洗浄、フォトレジスト、金属酸化物、窒化物除去、シャッタ回収

適用領域

集積回路、パワー半導体、基板材料、シリコンベースマイクロディスプレイ

3. 特色パラメータ：

洗浄槽の数：通常、複数の化学洗浄槽、純水洗浄槽などの異なる洗浄工程を実現するために複数の洗浄槽を有する。

12インチ槽式洗浄装置洗浄方式：ウエハ表面の各種汚染物質を効果的に除去するために、化学洗浄、メガサウンド洗浄などの多種の洗浄方式を支持することができる。

温度制御：正確な温度制御能力を備え、一定の温度範囲内で洗浄液或いはプロセスに対して温度調節を行い、異なる洗浄プロセスの需要を満たすことができる。

プロセス時間：洗浄工程ごとの時間を正確に設定し、制御し、洗浄効果の一致性を確保することができる。

ウエハサイズウエハサイズ:適用シヨウ 12インチウェハ洗浄は、大型ウェハの洗浄要求によく対応します。

自動化程度：高い自動化レベルを有し、ウエハの自動転送、位置決めと洗浄過程の自動制御を実現でき、生産効率を高め、人為的な操作誤差を減少できる

4. 設備の特徴

多薬液プロセス槽を備え、支持することができるDIO取付などの付属機能

ソフトウェアはカスタマイズされ、迅速な更新能力を備えている

高い温度制御安定性

超高い水分補給精度

精密なエッチング速度制御

優れた乾燥効果