海瑞思がCIOE 2026質量分析シリーズ製品の集束高精度ガス検査に登場

2026年9月9日、第27回中国国際光電博覧会（CIOE中国光博会）が深セン国際コンベンションセンターで開幕した。深セン市海瑞思自動化科学技術有限公司（以下「海瑞思」と略称する）はその質量分析シリーズ製品を携えて今回の展示会に登場し、半導体、新エネルギー、航空宇宙などの業界の精密検査需要に向けて、ガス検査と質量分析の方向における製品の配置を示した。

ヘリスブース

海瑞思は密封検査、質量スペクトル漏れ検査、質量スペクトル分析の研究開発と応用に集中している。2008年の設立以来、海瑞思は検査技術のアップグレードを持続的に推進し、気密検査、ガス検査、質量分析及び質量スペクトル検査漏れをカバーする完全な技術体系を構築し、検査精度は10µから10µPa・m³/sをカバーし、大漏れスクリーニング検査から極微漏れ検査までの異なる需要を満たすことができる。現在、海瑞思の製品はすでに液冷、半導体、自動車、新エネルギー、航空宇宙などの分野に応用されており、自主ブランドのHiraysは検査設備、自動化システム及びカスタム化治具をカバーし、単機設備から整線集積までのワンストップ検査方案のエネルギーを備えている。

今回の出展では、HM-130高性能残留ガス分析器を重点的に展示した、HM-150高圧力残留ガス分析器、HM-200オンライン質量分析器及びHM-230多圧力残留ガス分析器など多くの製品。

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今回出品されたHM-130高性能残留ガス分析計半導体及び真空プロセスのために設計され、高真空環境への応用に向けられている。この装置の最小検出可能分圧は2 E-15 Torrで、スキャン速度は2 ms/点に達し、質量数範囲は1-300 amuをカバーしている。半導体プロセスでは、漏れ検出、真空診断、炭化水素類分析などのシーンに使用することができる。その高感度特性は超低濃度ガス不純物を捕捉することができ、迅速な応答能力はリアルタイムでプロセスの過渡的変化を捕捉することができ、広い質量数範囲は多シーン、多ガスの定性定量分析に適合する。製品は半導体と真空めっき膜などの厳しい環境設計に向けて、長期運行の安定性と量産プロセスの一致性を重視している。

•HM-150高圧力残留ガス分析計

　　HM-150高圧力残留ガス分析計高圧の過酷な運転状況のために作られ、作業圧力の上限は2 Pa、最低分圧検出限界は2 E-9 Pa、酸化イットリウムイリジウムワイヤの2フィラメントまたは2タングステンフィラメントをコーティングし、応答速度は2 ms/点で、高真空からPVDプロセスまでの高感度空気漏れと汚染検出に応用できる。設備は1-50 amuと1-100 amuの二質量数範囲を備え、全スペクトル走査と特定質量数走査をサポートし、H₂、He、N₂、O₂、Arなどのよく見られるガスに対して迅速定性的定量分析を行うことができる。その高感度検出能力は汚染源のロックに役立ち、API統合と自動監視警報機能をサポートし、デジタル化ラインにアクセスできる。

•HM-200オンライン質量分析計

　　HM-200オンライン質量分析計本製品はコア自己研究、一体集積、無消耗材コスト及び多腔輪番検査などの特性を強調し、そして海瑞思のワンストップサービスをセットにする。四極ロッド質量分析技術に基づいて、HM-200は直接電解液を測定することができ、比較的に高い感度と広い質量数範囲を備え、真空システムの残留ガスの定性的定量分析、プロセスガスのリアルタイムモニタリング及び汚染源追跡に用いることができ、プロセス検証と研究開発の需要を満たす。検査プロセスにヘリウムガスを使用する必要はなく、システムのランニングコストの削減に役立つ、同時に、この方案は伝統的なヘリウム検査におけるガス浮上、電解液表面張力による漏れ検査問題に対して改善の構想を提供した。設備は人間工学設計に適合し、タッチディスプレイを持参することで、操作負荷を低減することができる。

•HM-230多圧力残留ガス分析計

　　HM-230多圧力残留ガス分析計RGA、真空システム及びインテリジェントサンプリングモジュールを一体化したオンライン質量分析装置であり、多圧力複雑な作業状況に適合する。その広い圧力範囲は1 E-8 Torrから1.2 atmまでカバーし、1台の設備は全勾配圧力場をカバーすることができ、ALD、CVD、PVDとエッチングなどの真空環境に厳しい半導体プロセスに適している。この設備は1-100/200/300 amuの3種類の品質数の選択を提供し、Hタンパ、He、Nタンパ、Oタンパ、Arなどの重要なガス成分をリアルタイムで監視することができ、ミリ秒級の応答速度を備え、リアルタイムでプロセスガス成分の変化を追跡することができ、異常な変動を発見した場合に直ちに警報を鳴らすことができる。一体集積設計はRGA、真空システム、サンプリングモジュールを高度に統合し、複雑な真空システムを追加構築する必要がなく、即ちテストを行う。また、設備は汚染防止コーティングと表面不動態化プロセスを採用し、プロセス堆積物のコア部品への汚染を減少し、使用寿命を延長するのに役立つ。

今回のCIOEでは、ヘリスは質量分析シリーズ製品の集中展示を通じて、ガス検出と質量分析の分野でコア部品からシステム統合までの技術能力を体現している。