真空加熱型ホモジナイザ

交渉可能更新01/08

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

真空加熱型ホモジナイザーは加熱型ホモジナイザーの基礎の上で内腔の真空引き機能を増加し、基板が加熱と真空負圧の状態でホモジナイザー作業を行うことを保証する。真空負圧状態は加熱しながら回転する制御温度均質化操作を行うことができ、コロイドの流動性を高め、溶媒の揮発を加速させ、均質化後に直接コロイドを焼くなどの操作に便利な解決策を提供した。

製品詳細

簡単な紹介：

真空加熱型ホモジナイザ加熱型ホモジナイザーに基づいて内腔真空引き機能を追加し、基板が加熱と真空負圧状態でホモジナイザー作業を行うことを保証する。真空負圧状態で加熱しながら回転する制御温度均質化操作を行うことができ、コロイドの流動性を向上させ、溶媒の揮発を加速させ、均質化後に直接コロイドを焼くなどの操作に便利な解決策を提供した。

薄膜材料の製造：金属薄膜、半導体薄膜、高分子薄膜などの各種機能薄膜材料の製造に用いることができる。研究者は加熱温度、回転速度、コーティング時間などのパラメータを制御することによって、薄膜の厚さ、均一性、ミクロ構造を正確に制御し、異なる材料の物理化学特性と応用性能を研究し、新型材料の研究開発を推進することができる14.
材料表面改質：材料表面にコーティング処理を行い、硬度、耐摩耗性、耐食性、親水性などの材料の表面性能を改善する。加熱防腐型回転コーティング装置は、特定の性能を有するコーティング材料を材料表面に均一にコーティングすることができ、加熱硬化により安定したコーティングを形成し、材料の寿命と性能を向上させることができる

詳細：

真空負圧は-0.06 Mpaに達することができ、より大きな負圧は特に設計をカスタマイズする必要がある。

パフォーマンスパラメータ：

加熱ターンテーブル：Φ50 mm

温度制御範囲：室温~ 150℃

温度分解能：0.1℃

温度制御精度：±0.5℃（安定後温度制御）

回転数分解能：±1 RPM

回転速度範囲：100-5000 RPM

加速度範囲：100-5000 RPM/S

シングルステップ設定時間：0.1-3000 S

プログラム可能：100セット100ステップ

自動ディスペンサー口：一路

設備重量：15 kg

電源入力：AC 220 V、5 A

加熱電力：150 W

モータ出力：200 W

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