VTC-600 GC-AM連続多チャンバマグネトロンスパッタリングめっきシステム

製品紹介

VTC-600 GC-AM連続多チャンバマグネトロンスパッタリングめっきシステム新自主開発のめっき装置であり、主に伝達室とスパッタリングめっき室の2つの部分から構成され、基板フレームは伝達室とスパッタリング室で往復運動を実現でき、周波数調整モータによって制御され、自動同期運転され、かつ往復位置と運動速度を設定でき、両室内に位置決め機能があり、原点リセットを実現できる。単層または多層の強誘電体薄膜、導電性薄膜、合金薄膜、半導体薄膜、セラミック薄膜、誘電体薄膜、光学薄膜、酸化物薄膜、硬質薄膜、ポリテトラフルオロエチレン薄膜などの製造に用いることができる。VTC-600 GC-AM連続多チャンバマグネトロンスパッタリングめっきシステム複数のターゲット銃を選択的に配置することができ、付属の無線周波数電源は非導電性ターゲットのスパッタリングめっき膜に使用され、付属の直流電源は導電性材料のスパッタリングめっき膜に使用される。同類の設備と比べて、応用が広いだけでなく、体積が操作に小便である利点があり、実験室で材料薄膜を製造する理想的な設備であり、特に実験室で固体電解質及びOLEDなどを研究するのに適している。

主な特徴

• 転送室とスパッタリングめっき室の2つの大部分からなり、迅速で連続的な注入スパッタリングめっきを実現することができる。

• 複数のターゲット銃を選択して配置することができ、付属の無線周波数電源は非導電性ターゲットのスパッタリングめっき膜に使用し、付属の直流電源は導電性材料のスパッタリングめっき膜に使用する（ターゲット銃は顧客の必要に応じて任意に交換することができる）。

• 多種の薄膜を調製でき、応用が広い。

• 体積が小さくて、操作が簡単です。

• 機械全体のモジュール化設計、伝達室、真空チャンバ、真空ポンプユニット、制御電源の分離式設計は、ユーザーの実際の必要に応じて調整することができる。

• ユーザーの実際のニーズに応じて電源を選択することができ、1つの電源で複数のターゲット銃を制御することもでき、複数の電源で単一のターゲット銃を制御することもできる。

技術仕様