VTC-1 HD-ZF 2高真空マグネトロンスパッタリング蒸着めっき装置

製品型番

VTC-1HD-ZF2型

主なパラメータ

1、真空室：φ324 X 330

限界真空6.0 X 10-4 Pa（国産FF-150リットルターボ分子ポンプ+機械ポンプ採用）

漏れ率：2.0 x 10-10 Pa.m 3/s

材料は304ステンレス鋼溶接、電気化学表面研磨処理である。

可動部シールはゴムシールリングを用い、非可動部シールは銅シールリングシールを用いた。

動力伝達は磁気結合連動方式を採用している。

真空チャンバの1つのマグネトロンターゲット位置、1組の蒸発電極（2本）、2本のビーム源炉ステーション（1本のビーム源炉を標準装備）。

1組流量計（アルゴンガス1組）φ150ガラス観察窓付き、C 35フランジインタフェースも予約した。

2、スパッタターゲット：2インチ（φ50.8 mm）

動作真空度：10 Pa ~ 0.2 Pa

ターゲット利用率：＞35%（標準3 mm銅ターゲット、ターゲット面真空度0.5 Pa）

MAX功率： ＜240W（完全冷却）

絶縁電圧：＞2000 V（付属500 W直流電源1個）

3、抵抗蒸発：

蒸発出力電圧：AC 0-8 V連続調整可能

限界蒸発電流200 A

限界蒸発電力＜1.6 KW

温度は制御できず、測定できない。

4、ビーム源炉：るつぼ容量：3 CC

加熱温度：室温-700°C

加熱温度は測定可能、調整可能、制御可能である。

温度制御精度：±0.5°C

標準的に石英るつぼを配置し、バッフル、熱電対を持つ。

電源電力：500 W、36 V

5、サンプル台：φ120

温度制御：室温-500°C

回転数：1～20 rpm

サンプル台は手動で昇降でき、調整可能ストローク上限：50 mm

6、EQ-TM 106-1膜厚計

1）電源：DC 5 V（±10%）、MAX電流400 mA

2）周波数分解能：±0.03 Hz

3）膜厚分解能：0.0136Å（アルミニウム）

4）膜厚精度：±0.5%、プロセス条件、特にセンサの位置、材料応力、温度、密度に依存する。

5）測定速度：100 ms-1 s/回、設定可能

6）測定範囲：500000Å（アルミニウム）

7）標準センサ結晶：6 MHz

8）コンピュータインタフェース：RS-232/485シリアルインタフェース（ボーレート1200、2400、4800、9600、19200、38400設定可能、データビット：8、ストップビット：1、チェック：なし）

9）アナログ出力：8ビット分解能、PWMパルス幅変調出力（コレクタ開放または内部5 V出力）

10）作業環境：温度0-50℃、湿度5%-85%RH、凝縮水滴があってはならない

11）外形寸法：90 mm×50 mm×18 mm

7、設備標準配置冷水ユニット1台（KJ 5000型）、お客様は冷水機及び脱イオン水或いは純水を持参する。

8、機械全体の電源入力：AC 220 V/50 Hz。出力は3.5 KW未満です。

9、製品規格：

サイズ：約1300 mm×660 mm×1200 mm、重量：約160 kg