プラズマ増強原子層堆積PEALD

型式：AT 650 P/850 P（プラズマ強化型）AT 650 T/850 T（サーマル型）

AT650T/850Tユーザー・サイトでAT 650 P/850 Pにアップグレード可能

技術パラメータ：

·小型デスクトッププラズマ

·マトリックス温度は400℃まで

·中空陰極源を有する

成長速度の高速化

より高い電子密度

プラズマ損傷の低減

酸素汚染の低減

·高周波無線周波の中空プラズマを配置する

·ホットタイプのALDコストで手頃なプラズマシステムを提供

·3種類の有機金属源（185℃まで加熱可能）、1つの常温源（185℃までアップグレード可能）と最大4種を植える酸化剤/還元剤源

·高温に耐える高速パルスALD弁ドア、統合された不活性ガスパージ−標準装備の超高速MFC

·最大6インチまたは8インチの基板、カスタムチャック/シャーシを提供

·静的反応モードでは高カバレッジが可能

可（か）供選ぶ項：

·チャック/台座のカスタマイズ

·QCM(石（いし）英語結晶バルクマイクロ天（てん）平（ひら）)

·ボトルに泡だて器をデザイン

·ロードロック（またはグローブボックスコネクタ）

·共反応物線（MFC制御）（最大2本追加可能）

·前駆体加熱ラインを185℃に追加アップグレード,合計4本

コンサルティングカスタマイズ可能システム

お客様事例：

グローバル100社以上のユーザー、複数のリピート購入ユーザー：

ハーバード大学

ヘルシンキ大学（ミッコ・リタラ教授とマッティ・プトコネン教授）

パン林グループ（LAM）3台以上）

オックスフォード大学（2台以上、セバスティアン ボニラ 教授）

国立材料科学研究所（日本、複数台)

東京大学（複数台)

早稲田大学（複数台)

ノースウェスタン大学（米国）

ケンブリッジ大学（イギリス）

ライス大学

イギリス領コロンビア大学（カナダ）

ENS-Paris（フランス、高等師範大学）

北京量子研究院

北京大学

ブリストル大学（イギリス）

シェフィールド大学など

リピート購入顧客の具体的な運用：

1. 早稲田大学（Waseda University）（東京）−センサ、表面改質、ナノインプリントリソグラフィ、優れたスルーホール製造（AIST）−茨城県

2. 早稲田大学（Waseda University）（東京）–システム#2、類似したアプリケーション。神奈川県横浜国立大学（Yokohama National University）

13. 国立材料科学研究所（NIMS）#1（茨城県）-表面とフィルム中のフォノン、原子スケールの低次元等化要素学、ナノ材料中のスピン軌道分裂

14. 国立材料科学研究所（NIMS）＃2（茨城県）-カーボンナノチューブ中のスピン関連輸送、ナノギャップ製造と分子輸送、グラフェン中のバンドギャップ工程、ゆうきトランジスタ

21.プライベートカンパニー（Private Company）（米オレー州ポートランド）−TEMサンプルの調製；HfO2, Al2O3, Ta2O5

22.Precision TEM（米カリフォルニア州サンタクララ）-TEMサンプルの調製；HfO2, Al2O3

43.プライベートカンパニーTK（Private Company TK）（宮城県）-TEMサンプル製造

44.プライベートカンパニー（Private Company）（米オレー州ポートランド）−TEMサンプル製造、HfO2, Al2O3, Ta2O5

45. 東京大学（University of Tokyo）（日本）–優れたALD技術

93. 東京大学（University of Tokyo）–日本東京–Dr.Onaya

91. 汎林グループ（LAM研究） – 米オレンジ・トワラテン（トゥアラティン）

97. 汎林グループ（LAM）システム#2–米国オレンジ・トゥワラテン

98.汎林グループ（LAM）システム#3–米国オレンジ・トゥワラテン

99. オックスフォード大学（University of Oxford）-英国オックスフォード-Prof Sebastian Bonilla

100.徳島大学（Tokushima University）（日本）

101. ヘルシンキ大学(ヘルシンキ大学) (フィンランド) Mikko Ritala教授とMatti Putkonen教授

102.アプリケーション材料会社（AMAT-Applied Materials）-米国

103. オックスフォード大学（University of Oxford）（英オックスフォード）