デスクトップ原子層堆積システムALD

型番：AT−200 M（熱原子層堆積システム）

市場で最も体積の小さい原子層堆積システムALD

科学研究に適した経済型原子層堆積システムALD

手頃な価格の原子層堆積システムALD

粉末にできる原子層堆積システムALD

グローブボックスに入れることができる原子層堆積システムALD

特に高真空及び水酸化物量が極めて低い環境での使用に適している

技術パラメータ：

·尺 (しゃく)寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8センチメートル

·粉末コーティングオプション（容量は~ 10 cm ^ 3まで）

·2インチx 2インチ×3インチまたは2インチウエハ2枚を置くことができるサンプル（カスタマイズ可能なチャックと粉末コーティングオプション）

·2個前駆る体エンド口，4個可（か）選ぶエンド口（150°℃までの熱追跡線を持ち、HTキットは180°Cまで）

·中空カソードプラズマにアップグレード可能（オプション）通風前駆体ハウジング

·高温に耐える高速パルスALDバルブ、超高速MFCを搭載して集積アイドルを行う性ガスパージ−標準配置

·オールステンレスキャビティ，温度範囲は300°Cに達することができる

·静的反応モードでは高カバレッジが可能

·PLC制御を統合した5インチディスプレイ

·生涯ソフトウェアのアップグレードを含む

·1年間保証

オプション：真空ポンプ、4ポート、オゾン発生器(AT-03),ボトルヒーター、QCM,リモートPC制御、ALD前駆体、グローブボックス、HTキット（前駆体から180℃）、発泡器、粉末塗装機、HCプラズマ体。

一般的なユーザー:

そのALDデバイスのお客様は、ALD業界の国際的な専門家を含む世界中に存在し、ALD会議委員会の著名なメンバーである

ショーン・バリー、デニス・ハウスマン、ミッコ・リタラ，アンジャナ デビ，ステイシー ブレント等

その中ミッコ リタラ毎年たくさん発表されているALDの記事。彼はALDの発祥地、ヘルシンキ大学から来た

詳細はお問い合わせください。

私たちのALDコンサルティングサービス

フィルム堆積サービス

私たちはさまざまな材料をあなたのサンプルに堆積することができます。

プロセス問題解消サービス

薄膜とナノテクノロジーのプロセス、プロセス統合、デバイスの性能に幅広い技術サポートを提供することができます。ニーズがある場合は、従業員の豊富な経験、深い文献研究、理論モデリング、直接実験に基づいてレポートとアドバイスを提供します。

我々の特技は原子層堆積技術にあるが(ALD)，しかし、私たちは多くのプロジェクトにも参加しています。これらのプロジェクトは通常、半導体加工とナノテクノロジーの研究と開発の範疇に属しています。

私たちはベンチャー企業のために新しい設備を開発し、大学の実験室や一部の大手企業のために新しい材料を開発したことがあります。

市場分析と技術評価

私たちは関連分野の企業と学術界にある特定の原子層堆積技術の市場における応用傾向に対する深い分析を提供することができ、同時に既存及び新興の原子層堆積関連科学の研究と開発現状に対して評価を行うこともできる。