フォトリソグラフィ装置

交渉可能更新02/09

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

リソグラフィプロセスデバイス製品の概要：$nは3 Dパッケージ、LED、マイコン電気システム、化合物半導体、パワーデバイスなどの分野で$n主な配置：自動アライメント、自動露出、LED光源、機械視覚アライメントシステム、高精度シリコンウェハ載置台、自動くさび誤差補償システム$n LED光源：3波長任意配置、より多くの応用シーン$n高解像度、高均一性をサポートする、使用寿命が長く、メンテナンスが簡単：$nマシンビジョンアライメントシステム：上部と下部のデュアルモードアライメント、大視野、高精度、4種類の照明光が選択可能で、技術適応性が強い、手動、自動モードを自由に切り替える

製品詳細

フォトリソグラフィ装置製品の概要：

3 Dパッケージ、LED、マイコン電気システム、化合物半導体、パワーデバイスなどの分野。

主な配置：自動アライメント、自動露出、LED光源、機械視覚アライメントシステム、高精度シリコンウェハ支持台、自動くさび誤差補償システム。

LED光源：3波長任意配置で、より多くの応用シーンをサポートする。

高解像度、高均一性、寿命が長く、メンテナンスが簡単：

マシンビジョンアライメントシステム：上部と下部のデュアルモードアライメント、大視野、高精度、4種類の照明光が選択可能で、技術適応性が強い、手動、自動モードを自由に切り替えます。

フォトリソグラフィ装置技術パラメータ：

マスク版、シリコンシート
シリコンウェハサイズ	8'/ 6'
シリコンシートの厚さ	最高 10 mm
マスク版サイズ	9' ×9'/7' ×7' （セミ）
マスク板厚	最大6.35mm
露出モード
コンタクトモード	ソフトコンタクト、ハードコンタクト、真空コンタクト
露光ギャップ	0〜1000μm
クリアランス精度	1μm
露光強度	0 ~ ≥40mw/cm 2
露出レンズ
光源タイプ	LED の
露光波長	365nm、405nm、
光強度均一性	≤4% 8' / ≤3% 6'
解像度	真空接触≦1 um
	ハードコンタクト≦1.5μm
	ソフトコンタクト≦2.2μm
	隙間≦3.6μm
アラインメントモード
トップアライメント	±1μm
オプションの下部位置合わせ	±2μm
トップフォーカス範囲	5 ミリメートル
ボトムフォーカス範囲	5 ミリメートル
シリコンウェハ支持台
うんどうはんい	X：±5mm y：±5mmθ：±5°
解像度	0.04ミクロメートル
トップアラインメントレンズ
移動範囲	6' 40〜150mm
	8' 40~200ミリメートル
ボトムアラインメントレンズ
移動範囲	6' 40〜150mm
	8' 40~200ミリメートル
ユーザーインタフェース
ウィンドウズ 10	保存可能プロセスメニュー
フィールドサービス要件
真空<−0.8 kPa、窒素＞0.5 Mpa、圧縮空気：0.6 ~ 0.8 Mpa
電力供給要件
電圧：230 V±10%	周波数：50 ~ 60 Hz
すんぽうじゅうりょう
長さ×幅×：1200×1000 mm	高さ：1973 mm重量：~ 400 kg

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