バッチ式CVD回転炉

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概要

間欠式CVD回転炉は制御キャビネットと加熱炉から構成され、制御キャビネットは密封ハウジングであり、回路基板とガス路板を内蔵し、外部はタッチスクリーンと手弁を通じて回路とガス路を操作することができる、加熱炉は1台の三温区開式管式炉と相応の部品から構成され、炉管は回転可能である。

製品詳細

1、この設備は制御キャビネットと加熱炉から構成され、制御キャビネットは密封ハウジングであり、回路基板とガス路板を内蔵し、外部はタッチスクリーンと手弁を通じて回路とガス路を操作することができる、加熱炉は1台の三温区開式管式炉と相応の部品から構成され、炉管は回転可能である、

2、加熱炉の左端フランジは吸気端であり、遮断弁+VCR継手から吸気端を構成し、フランジに自動圧力逃がし装置（センサ+電磁弁）を備えている、右端フランジは排気端であり、ボールバルブ+VCR継手から排気端を構成し、排気口は手動バッフルバルブと防爆周波数変換真空ポンプから構成される、炉管内にはストッパーアセンブリが配置され、実験材料の流失を防止している。設備全体のガス回路インタフェースはVCR 1/4インタフェースである。

定格電圧	380V
電力	13KW
しようおんど	500-1000℃
炉管寸法	金属管φ80 mm×φ150 mmX 1700 mm（両端＊中間＊全長）
ヒータエレメント	抵抗線
かねつりょういきのながさ	300mm300300
炉管回転速度	0-7rpm
熱電対タイプ	K型熱電対
マスフローメータ	0-2L/Min D07-19B（4路）
フロート流量計	2-20 L/minガス
デバイスサイズ	制御盤：長さ1132 mm×幅1000 mm×高さ1900 mm、加熱炉：長さ2500 mm×幅630 mm×高さ 1300ミリメートル
デバイス総重量	700キログラム

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