ICCS−触媒のその場特性化システム

ICCS触媒のその場特性化システムは、米国マイク機器Micromeriticsが発売した次世代触媒のその場特性評価システムであり、他の動的実験室反応器システム（マイク機器のマイクロ反応器など）とMicro-Activity EffiとSolo）とは異なり、既存の反応システムに基づいて2つの重要な特性評価技術であるプログラム昇温分析（TPx）とパルス化学吸着を追加したほか、対応する構成を選択することで物理吸着を行うことができる。ユーザは、ICCSを用いて新鮮な触媒上でこれらの重要な特性評価技術を行うことができ、反応器から触媒を取り出す必要がなく、直接繰り返し試験を行うことができる。同一試料に対して反応研究を行うことができ、同時にTPxとパルス化学吸着のデータを得ることができ、触媒のその場特性評価を実現し、触媒研究に新しい特性評価ツールを提供した。このようなその場分析を行うと、環境中のガスまたは水分汚染触媒の可能性を除去し、活性触媒の損傷と反応破壊後のデータの相関性を特性化することを回避することができる。

ICCS触媒のその場特性化システム技術

ICCSの通常の試験プロセスは、触媒をICCSの反応器システムに装填し、次にTPx法を選択して触媒を特性化することを含む。TPx分析において、プログラム昇温還元（TPR）は負荷型金属触媒によく用いられ、プログラム昇温脱着（TPD）は酸アルカリ触媒によく用いられる。TPxの後には通常、触媒活性部位の数を決定するためにパルス化学吸着が行われる。TPxとパルス滴定により、典型的な反応条件下（特に高圧下）における新鮮な触媒の情報を得ることができる。

上記の特徴付けを行った後、ユーザーは触媒を追加または移動する必要はなく、同じ触媒サンプルに対して直接反応研究を続けることができる。

長時間使用後の触媒は、新鮮な触媒と同じ条件で同じTPx及びパルス化学吸着分析を行うことができる。反応器から触媒を取り出す必要がなく、反応前後の触媒の重要な特性、例えば活性部位の数を比較することができる。

ICCS触媒のその場特性化システムの主な特徴と利点

• ICCS触媒のその場特性化システム高温高圧の反応条件下で触媒、触媒担体及びその他の材料をその場特性化し、効果的に環境中の干渉を排除することができる。

• 2つの高精度の質量流量計は、TPxとパルス化学吸着の正確な分析を保証するために、ガス流量を正確かつ全自動的に制御することができる。

• その場試験により、同一触媒サンプルに対して多種の特徴付けを行うことができる。

• 高精度の熱伝導検出器（TCD）は、試料管前後を流れるガスの微細濃度変化をリアルタイムで検出することができる。

• 直感的なソフトウェアとグラフィックスインターフェースを備え、タッチスクリーンを通じて安全警報、コマンド、制御パラメータなどの一連の操作を行うことができます。

• 温度制御ゾーン内のステンレス鋼パイプラインは、配管内の凝縮を回避するための不活性で安定した動作環境を提供します。2つの内部温度制御領域は独立して動作することができる。

• 温度制御可能なコールドトラップを内蔵し、凝縮物（酸化物の還元過程で発生した水など）を除去する。

• 超小型内部管路の体積は、ピーク幅を大幅に減少させ、ピーク解像度を大幅に向上させることができる。

• 防腐検出器フィラメント、互換性TPxとパルス化学吸着によく使われるガス。

• インタラクティブピーク編集ソフトウェアにより、ユーザーは結果を迅速かつ容易に評価し、ピークを編集して報告することができます。簡単な指向とクリックだけでピーク境界を調整することができます。

触媒のその場特性評価システムの解析能力

ICCS触媒のその場特性化システムは一連の化学吸着とプログラム昇温反応のその場特性化を行うことができ、触媒と担体の各重要な属性を定量化することができ、触媒活性、選択性、失活、中毒と再生の過程を研究するのに便利である。

パルス化学吸着は以下の情報を得ることができる：

きんぞくひょうめんせき

きんぞくぶんさんど

平均金属粒子サイズ

活性部位数

TPx技術の応用例：

触媒再生の研究（プロセス昇温酸化、TPO）

吸着強度（TPD）の研究

評価金属触媒中の助剤は金属とキャリア間相互作用の影響（TPR）

物理吸着を特徴づけることで、材料の表面積を得ることができます（オプション）。