ドイツHitec Zang高圧反応器システム

ドイツHitec Zang高圧反応器システムHiClave

HiClave™高圧プロセス反応装置は高圧プロセス反応、特に多相高圧反応のシステムに適している。

これらは単一または平行な反応系として動作することができる。

HiClave™高圧反応システムは10−250 mlの反応体積を提供する、

zui大耐圧300 bar，zuiは300℃に達する。

純金属圧力キャップが密封されているため、システムが密封状態に達し、ガスの消費量を正確に測定することができる、

zuiは多くて7つの媒体を接続することができます;

磁気攪拌機または磁気シールのトップセット式機械攪拌機、

異なる形式のガス/液体の供給システム、

標準構成に加えて、必要に応じてシステムをカスタマイズできます。

大波をかき立てる.高圧プロセス反応装置は以下の応用に適している

10ミリリットルと20ミリリットルはんのうき

10 mlと20 mlの反応器にはナット付きの釜蓋と十字接続がある。

十字の上部は一般的に内部温度コントローラによって占有され、2つのサイドアームは一般的に媒体と圧力計を接続している。

反応器は加熱磁力攪拌器で加熱し、攪拌子で攪拌することができる。

50ミリリットルはんのうき

加熱スリーブで加熱し、上部から攪拌する。

冷却プレートを使用して冷却することができます。

ナット付きの釜蓋と3つの接続ヘッドで構成されています。

磁気結合された攪拌機、温度制御装置、および接続媒体を取り付けるために使用することができる。

100～250ミリリットルはんのうき

7つの接続出口を有するフランジカバーのうち、3つは釜カバーの外側にあり、操作が容易である。

中央出口は磁気結合された攪拌モーターによって使用される。

反応器はSS 1.4571ステンレス鋼（SS 316 Ti）またはハースト合金C 4で製造された。

加熱スリーブを用いた加熱は、冷却プレートまたは内部冷却回路を介して冷却することができる。

トップセッティング攪拌機を用いて攪拌し、zui大トルク20または50 NCM。

水和モジュール

Vl−hiclave−hydrモジュールは、不活性ガス洗浄及び反応器漏洩試験を含む全プログラムを自動的に実行する。

不活性ガスを反応器に通し、zuiの高い調整可能な圧力レベルに達して空気を入れる。

洗浄サイクルは必要に応じて繰り返すことができ、zui後に不活性ガスで圧力試験を行う。

試験に合格してこそ、反応ガスが放出され、洗浄に使用され、設定圧力に達したら、プログラムが起動する。

内蔵のガス消費測定ユニットは動力学データを記録することができ、ガス消費速度も反応を中止する基準として使用することができる

監視データは自動的に記録され、報告書に提示され、ガス消費曲線の動力学分析と測定過程は同時に完成した。

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