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昆山瑞塞奇精密機器有限公司
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日立高新イオン研磨装置IM 4000

ネゴシエーション可能更新07/29
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概要

日立高新イオン研磨装置IM 4000の主な特徴:1.断面切断を行ってもよく、平面研磨を行ってもよい、2.加工効率がより高く、断面約500μm/h、3.プログラム制御間欠式加工、4.冷房機能により熱を受けやすくすることができる…

製品詳細

日立高新イオン研磨装置IM 4000


主な特徴:日立高新离子研磨装置IM4000

1.断面切断を行ってもよく、平面研磨を行ってもよい、

2.加工効率がより高く、断面約500μm/h、

3.プログラム制御間欠式加工、

4.冷房機能により熱により損傷しやすいサンプルの加工が可能

応用分野:

1.LED、PCBなどの半導体業界、

2.シェールガス、

3.高分子材料

日立高新离子研磨装置IM4000
ブレード切断方式によるIM 4000 plusイオン研磨断面切断
サンプル:カラー印刷用紙断面(多層構造)
倍率:1万倍

日立高新离子研磨装置IM4000
冷房研磨を使用していない冷房研磨を使用している
サンプル:リチウム電池ダイアフラム断面
倍率:2万倍

日立高新离子研磨装置IM4000
機械研磨処理後のIM 4000 plusイオン研磨平面処理
サンプル:金線溶接部の断面
倍率:1万倍