膜厚測定器

交渉可能更新02/09

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

膜厚測定器本装置は反射干渉の原理を利用して非破壊測定を行い、吸収または透明基板上の薄膜の厚さおよび屈折率を測定すると同時に、サンプルの反射率を提供し、測定精度はオングストローム級の分解能に達し、測定は迅速で、操作は簡単で、界面は友好的で、測定時間は1秒未満である。光抵抗、半導体材料、高分子材料などの薄膜層の厚さ測定に応用でき、半導体、太陽光、液晶パネルと光学業界及び科学研究院所と大学で広範な応用と大きな好評を得た。

製品詳細

膜厚測定器測定システム仕様：

基本機能：膜厚値及びR、N/Kなどのスペクトルを取得する

スペクトル解析範囲：380 nm-1000 nm

測定スポットサイズ：標準1.5 mm、最小0.5 mm

膜厚繰り返し測定精度：0.02 nm（100 nmシリコン系SiO 2試料、100回繰り返し測定）

膜厚精度：0.2%または2 nmの間が大きいもの

膜厚測定範囲：15 nm-70μm

n値とk値の厚さ測定要求：100 nm以上

単一点測定時間：≦1 s

光源：標準ハロゲンランプ光源（光源寿命2000時間）

解析ソフトウェア：数百種類に達する光学材料定数データベース、そしてユーザーのカスタム光学材料ライブラリをサポートする、多層等方性光学フィルムのモデリングシミュレーションと分析機能を提供する