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メール
frank.yang@acuitik.com
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電話番号
13817395811
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アドレス
上海市浦東新区祥科路298号4階
製品カテゴリー
蘇州知識科学技術有限公司
概要
NS-30シリーズは蘇州知識科技有限公司が生産したデスクトップ式自動膜厚測定分析システムであり、Waferウエハエピタキシャルオンライン膜厚監視に特化している。
製品詳細
Waferウエハエピタキシャルオンライン膜厚モニタリングは半導体製造における重要な技術であり、主に非接触式光学測定方法を採用し、エピタキシャル成長過程におけるリアルタイム厚さモニタリングと制御を実現する。
NS-30シリーズは蘇州知識科技有限公司が生産したデスクトップ式自動膜厚測定分析システムであり、Waferウエハエピタキシャルオンライン膜厚監視に特化している。この設備は先進的な光学測定技術を採用し、高精度、高安定性とインテリジェント化の特徴を持ち、半導体製造分野で重要な役割を果たしている。
一、核心技術原理
NS−30シリーズ膜厚計を白色光干渉原理に基づいて測定した。装置は測定すべきウエハ表面の薄膜に垂直に高安定広帯域光を照射し、入射光は薄膜上面で反射し、他の一部は薄膜に透過し、薄膜と基板の界面で反射する。この2本の反射光は互いに干渉して干渉パターンを形成し、スペクトル分析及び回帰アルゴリズムにより薄膜各層の厚さ、屈折率及び反射率などのパラメータを計算することができる。
二、主要技術パラメータ
三、コア機能の特徴
1、高精度測定能力
−サブナノスケール精度：測定精度は0.02 nmに達することができ、ナノスケールの薄膜厚さ測定を実現する、
-高繰り返し性：繰り返し精度0.02 nm、測定結果の一致性と信頼性を確保する、
-広い測定範囲：1 nm-250μmの厚さ測定範囲をカバーし、異なる応用ニーズを満たす、
2、自動測定機能
-自動サンプリングステージ：プラットフォーム寸法100 mm-450 mmを選択可能で、大寸法ウエハ測定をサポートする、
-インテリジェントポイント分布：ソフトウェアは需要に応じて自動的に測定ポイント分布を生成し、多ポイント自動測定をサポートする、
-2 D/3 Dマッピング：厚さ、屈折率、反射率などのパラメータを生成する2 Dと3 D分布図、
3、非接触非破壊測定
-光学非接触：非接触式測定を採用し、ウエハ表面に損傷を与えないようにする、
−多層フィルム測定：多層複合フィルムの各層の厚さと光学パラメータを測定することができ、
−材料適合性：酸化物、窒化物、光抵抗などの材料を含む透明または半透明膜層に適用すること、
四、Waferウエハエピタキシャル監視における応用
1、プロセス制御優勢
NS-30シリーズはWaferウェハエピタキシャルプロセスにおいて重要な役割を果たす：
-リアルタイムモニタリング：ALD原子層堆積、CVD化学蒸着などのプロセスでオンラインその場測定を行うことができる
−プロセス最適化：正確な膜厚データフィードバックにより、プロセスパラメータのリアルタイム調整と最適化を実現する
-品質保証：エピタキシャル層の厚さ均一性を確保し、半導体装置の性能と信頼性を高める
2、測定効率の向上
-高速測定：一回の測定時間は1秒未満で、高速ロット検査をサポートする
-バッチ処理：8インチ結晶箱の自動転送をサポートし、測定効率を大幅に向上
-インテリジェント分析：強力な分析ソフトウェアを搭載し、SPC統計分析とデータ管理を自動化
3、応用分野の拡張
Waferウエハのエピタキシャルモニタリングのほか、NS-30シリーズは以下のように広く応用されている：
-半導体製造：SiOを測定する？、SiNx、ポリシリコンなどの重要な膜層
-太陽電池：TOPCNのAl？O？／SiNx積層膜、HJTのTCO透明導電膜
−光学めっき膜：AR反射防止層、AGアンチグレアコーティング、フィルター等
-表示パネル：OLED、TFT、ITOなどの薄膜層厚さ測定
NS-30シリーズのデスクトップ式自動膜厚計はその高精度、高安定性とインテリジェント化の特徴によって、Waferウエハエピタキシャルオンライン膜厚モニタリングに信頼性のあるソリューションを提供し、半導体製造、光起電力、表示などのハイテク分野で重要な役割を果たしている。
