アルミナ（炭化ケイ素）セラミックス基板焼結製造装置

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概要

アルミナ（炭化ケイ素）セラミックス基板焼結製造装置の用途及び特徴：$r$nこの装置は主に窒化アルミニウム（又は炭化ケイ素）セラミックス基板の焼結成形に用いられる。$r$n（1）横型炉体構造、二重水冷ジャケット設計、ワンタッチ起動、全自動運転技術安定信頼性。$r$n（2）は窒素予熱機能を持ち、多重質量流量計を配設し、多点吸気し、炉温均一性に有利である。$r$n（3）炉内は低灰分黒鉛発熱体、低灰分黒鉛硬フェルトにより保温され、長寿命熱電対により温度測定され、輸入赤外線モニタリングに配合され、温度測定・制御が安定で信頼性がある。

製品詳細

アルミナ（炭化ケイ素）セラミックス基板焼結製造方法設備の用途と特徴：

この装置は主に窒化アルミニウム（または炭化ケイ素）セラミックス基板の焼結成形に用いられる。

（1）横型炉体構造、二層水冷ジャケット設計、ワンタッチ起動、全自動運転技術の安定信頼性。

（2）窒素予熱機能を持ち、多重質量流量計を配置し、多点吸気し、炉温均一性に有利である。

（3）炉内は低灰分黒鉛発熱体、低灰分黒鉛硬フェルトで保温し、長寿命熱電対で温度を測定し、輸入赤外線モニタリングを配合し、温度を測定制御し、安定で信頼性がある。

（4）発熱素子は炉内壁の園周に沿って均一に配置され、多平均温度制御は加熱温度の均一化に有利であり、多段PIDと知能診断機能を備え、さらに焼結品質を高める。

（5）炉後に高速冷風機及び熱交換器を備え、冷却速度が速く、生産効率を高める。

アルミナ（炭化ケイ素）セラミックス基板焼結製造方法主な仕様：

設計温度2200℃、真空1 Pa、装填エリアの寸法は（縦横高さ）：800×400×400 mm、1500×500×500 mm、1800×800×800 mm

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