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超被写界深度顕微鏡システム

交渉可能更新01/11
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原産地
概要
超被写界深度顕微鏡システムは被写界深度拡張技術と三次元再建を結合した高性能顕微鏡イメージングシステムであり、主に化学、材料科学及び化学工学分野に応用されている。このシステムは焦点走査、光学伝達関数調整などの技術によって高解像度と大被写界深度のイメージングを実現し、最大モードで倍率は50000倍に達することができる。その携帯構造とハンドヘルド分析能力は実験現場の観察、例えばセメントコンクリート、土壌環境分析などに適している。
製品詳細

超被写界深度顕微鏡システムの紹介

超被写界深度ビデオ材料分析システムの多角度写真顕微鏡は光学技術、光電変換技術と電子表示技術を一体化した分析機器であり、その核心的な特徴は体視顕微鏡技術と金相顕微鏡技術を結合し、伝統的な光学顕微鏡の視野深度制限を突破し、三次元空間イメージング機能を実現することである。このシステムは環状照明技術と平行光路変倍システムを通じて、三次元形態イメージング、粒子径測定、高さ及び幅測定などの多くの機能を備えている。主に地球科学研究、生物サンプル観察、文化財表面分析及び電子工業精密検査などの分野に応用されている。

超景深显微镜系统

超被写界深度顕微鏡システムのパラメータ

センサ:24 BIT真色CCD、日光型/照明型、D 65光源補正

光学系:CFS多焦点集光システム

*出力画素:2 K(1920 X 1080)/4 K(4325 X 2430)

水平解像度:>2000 TV lines

センサタイプ:HP CCD(ラインスキャン)

データ型:真カラー24 Bit R×G×B×8

ターゲット面寸法:1/2インチ

スキャン方式:プログレッシブスキャン

スペクトル応答:400 nm ~ 1000 nm(蛍光顕微鏡系対応)

感度:1.0 V/lux-sec@550nm

スキャン方式:プログレッシブスキャン

ホワイトバランス:高速自動追跡+手動

露出時間:自動または手動で調整可能(38ミリ秒~5000ミリ秒)

カラー方式:白黒/カラー

コントラスト:手動または自動調整可能

ガンマ値:手動または自動調整可能

2.インタフェースとスケール標準C-MOUNTインタフェース内蔵、任意の通常顕微鏡の接続を実現でき、0.01 mm校正スケールは顕微鏡システムの正確な定量を実現する

二高低倍光学ミラー群(光学増幅部)

2.1光学ミラー群一体型同軸ミラー及びPZ-WN-YH 400 L低倍レンズ

*光学変倍比:12:1

変倍方式:連続変倍、動作距離一定

動作距離:WD 80 mm(動作距離一定)

*倍率:24 X(MIN)----280 X(MAX)、連続変倍

視野範囲:12 mmx 8 mm----1 mmX 0.75 mm

*変倍方式:電動変倍、知能識別表示拡大倍数

*同軸光路:本体光路に取り付けられている

照明方式しょうめいほうしき:リング照明/斜め入射照明/同軸照明をサポートする

2.2 PZ-WN-YH 400 C一体型同軸高倍対物レンズ群、高速交換型対物レンズ


超景深显微镜系统

超被写界深度顕微鏡の応用

電子、半導体業界において:リチウム電池バリの観察及び測定、PCBパネルの観察、半導体円盤、スズビーズ、溶接溶融深さ、液晶パネルフィルムの傷、光学フィルム、半導体銀線表面欠陥などに応用できる。

化学工業業界において:繊維、ガラス割れ、光起電板断面格子線の形態観察に応用できる。

金属業界において:工具切断、鏡面軸受、アルミニウム管壁、金属切断亀裂源の観察判断、船舶用金属材料表面突起起点高さ測定に応用できる。

地質業界では:薄いスライス、研磨シートなどの調製された地質サンプルの観察に応用することができ、微小体化石、鉱物粒子、岩様、岩心、顕微担持片、化石などの未調製の地質サンプル。

食品と薬品業界において:包装袋の破裂、錠剤表面被覆膜、茶葉葉葉鑑定の観察に応用できる。

生命科学業界では:毛髪表面の毛鱗片観察、植物葉、昆虫組織の切断観察に応用できる。

超被写界深度顕微鏡の完全なソリューションを提供する。