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wulihua@cinv.cn
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電話番号
18019703828
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アドレス
上海市浦東新区浦東南路2250号A席301室
上海西努光学科学技術有限公司
wulihua@cinv.cn
18019703828
上海市浦東新区浦東南路2250号A席301室
半導体業界の検出ソリューション
全自動Framed Wafer AOIデバイス
プロアイ 01

切断関連プロセスに対して専門的な検査と測定ソリューションを提供し、最終製品の信頼性を確保することは極めて重要な任務である。切断管、崩壊、引っかき傷、不純物粒子及びDie欠損などの欠陥に対して高速検査を行うには、製品の品質と生産効率を確保するために、多種の技術手段と策略を総合的に運用する必要がある。

全自動ウェハ赤外線AOI装置
プロアイ 02

自律赤外光光学系を用いた装置は、その機能と設計は、さまざまな検出アプリケーションにおける赤外光と可視光の正確な需要を満たしている。このシステムは専門的で豊富な光学部品を集積しているだけでなく、イメージング品質は、検出結果の正確性と信頼性を確保します。

全自動ウェハAOI装置
プロアイ 03

本設備は自主開発であり、所有独自の知的財産権を持つウェハ検出システムは、waferとchipの生産プロセスにおいて自動化、高効率、高精度が必要なシーンのために設計されています。我々は各種類のサンプルの特性を深く分析し、欠陥検出精度、検出安定性及び操作容易性に対して精密に最適化を行い、多元化の検出需要を満たすように努めた。設備は自動と手動の2種類の操作モードを提供し、高効率で安定した生産設備として、また柔軟で便利な研究開発ツールとして、ユーザーに提供することができるソリューションを検出します。

半自動ウェハ光学収集装置
観客は

SpectView SAは西励科学技術が自主開発した高精度運動プラットフォーム、レーザーアクティブフォーカスモジュール、光学顕微鏡制御及び先進的な画像処理アルゴリズムを集積した顕微鏡自動化方案であり、半導体製造過程におけるウエハの自動画像収集に特化し、全面的かつ正確な検出と分析を行う。



半導体業界の検出ソリューション技術仕様
ウェハタイプWafer Type |
ベアウェハRaw Wafer フレームウェハFramed Wafer |
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ウェハサイズWafer Size |
6' (150mm) 8' (200mm) |
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照明方式 |
明フィールド/暗フィールド/ブレンド |
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対物レンズ倍率Objective Magniガウスカイト |
2X 5X 7.5X |
10X |
画像解像度(µm/pixel)Image Resolution |
1.600 0.640 0.427 |
0.320 |
カメラ視野(mm)Field Of View |
11.20 x 11.20 4.48 x 4.48 2.98 x 2.98 |
2.24×2.24 |
最大生産能力(WPH@8')Max Throughput |
90 15 7 |
4 |
検出精度Inspection Accuracy |
最大0.5µm(CD)/1.0um(欠陥)、@ 10X |
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破損率Breakage Rate |
< 10 PPM |