RTP機台温度計EX-ET-222

主な特徴

詳細説明

30年以上の歴史を持つ貴金属熱電対業界の先駆者として、BASFはその温度測定技術を光学温度測定に専門的に応用している。 BASF Exactus®赤外線温度センサは技術的なブレークスルーを獲得し、非接触式温度測定において顕著な性能優位性を示した。他の同類製品と比較して、その敏感な電子技術、精密光学技術及び短波長を利用して低温を測定する能力はプロセス制御をより厳しく、精度が高く、全体性能がより良い。

RTP機台温度計EX-ET-222系BASF Exactus®シリーズ製品はウエハ間の温度と膜厚の均一性を制御する上で多くの利点を持っている：高度に敏感なエレクトロニクスと先進的な光学技術は、より短い波長の検出器で放射エネルギーを測定できることを意味し、これはウエハの透過と放射率による誤差を減少させる。また、高速測定と高分解能により、温度制御とノイズ抑制の優れた性能が確保され、これにより、より良いウェハ温度監視と製造プロセスが提供される。

RTP機台温度計EX-ET-222900 nm前後のセンサー直接光管接続形式を用いて多チャンネルIFM 10-ECを結合し、最大10点のリアルタイム測定と記録を実現でき、測定温度範囲は250-1300℃をカバーし、精度は1.5℃、繰り返し性は0.1℃に達する。AMATに適応可能なRTP温度測定システム。

BASF Exactus®一連の赤外線温度測定装置は急速アニーリング、急速酸化、薄膜堆積などの半導体プロセスに広く使用されており、AIXTRON、LPE、Premtek、AMATなどの複数のMOCVD装置や他のRTP装置に集積されている。また、温度測定精度と安定性が高いため、Thermogauge社などの高温黒体炉メーカーにも温度標準器として使用されています。

典型的な用途

技術仕様