Quantum X shape二光子マスクレスリソグラフィシステム

同類の中超前の3 D印刷システムとして

量子X形状 任意の形状を印刷することができ、最小サイズは100 nmに達することができ、同時に表面粗さ（R）a)5 nm未満、最大面積25 cm

自動滴下モジュール機能を備えた印刷システムで、一晩の効率は200の特徴構造に達することができる。

汎用高性能二光子重合材料、高分子及びガラス印刷に適用する。

精度を変える。

工業界に認められたものとしてナノスクリーブ同社が発表したQuantum Xプラットフォームの二世代加工システムは、Quantum X shape二光子マスクレスリソグラフィシステム3 Dマイクロナノ加工分野で保有驚くほどの高さに匹敵する精度ナノスクリーブ会社は表面構造の応用において画期的な二光子グレーリソグラフィ(2GL ®)。新しい量子X形状の高精度はその最高能力のボクセル変調比と超微細処理メッシュに依存し、それによってサブボクセルのサイズ制御を実現する。さらに、二光子グレーリソグラフィボクセルの微調整に対して、このシステムは表面微細構造の作製上で超平滑を達成することができ、同時に高精度の形状制御を維持することができる。

出力を変更します。

Quantum X shape二光子マスクレスリソグラフィシステム生物医学、微光学、MEMS、マイクロ流路、表面工学、その他多くの分野におけるデバイスの高速プロトタイプ作成のための理想的なツールであると同時に、ウェハベースの小構造ユニットの量産のための簡易なツールでもある。

ユーザビリティを変える。

システム統合タッチスクリーンによる印刷ファイルの制御により、実用性が大幅に向上します。システムが持参したnanoConnectXソフトウェアを通じて印刷ファイルの遠隔監視及びマルチユーザーの使用配置を行い、工業標準化の推進及びウエハに基づく量産効率の生産を実現する。

主な特徴：

*ナノスケール印刷：任意の空間方向における特徴スケール制御、100 nmに達することができる

*超高速ボクセル制御と100 nm処理メッシュの高速3 Dマイクロナノ加工

*振動鏡軌道制御により保証された最速走査速度における軌道精度

*自動化自己較正経路により保証される高精度レーザエネルギー制御及び位置決め

*6インチ基板とシリコンシートの幅広い選択肢

*工業化量産：200の標準メソスコピック構造の徹夜生産量

*実用性と体験性を保証するタッチスクリーンとリモート制御機能

*高速プロトタイプ作成、高精度、高設計自由度、簡易明瞭なワークフロー

*工業的に検証されたウエハレベルの量産

*汎用および専用の印刷材料

*自主印刷と第三者印刷に対応