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貴金属ターゲット蒸発材加工

ネゴシエーション可能更新05/07
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概要

スパッタ装置専用ターゲット、貴金属ターゲット蒸発材料を加工し、材料は金で、純度は99.999%に達し、高品質の金膜を得るために基礎を築いた。

製品詳細

スパッタ装置専用の金ターゲット、貴金属ターゲット蒸発材加工、材料は金で、純度は99.999%に達し、高品質の金膜を得るために基礎を築いた。また、プラチナターゲットと銀ターゲットの現物製品を提供し、その中でプラチナターゲットのサイズは直径50*0.1 mm、純度99.99%、銀ターゲットのサイズは直径50*0.5 mm、純度99.99%である。お客様のニーズに合わせて、各種非鉄金属の蒸発材やターゲットをカスタマイズして加工することもできます。

スパッタリング装置(貴金属ターゲット蒸発材加工)には主に2つのアプリケーションがあります。

第一に、走査電子顕微鏡のサンプル前処理。走査型電子顕微鏡で非導電性試料を観察する場合、入射電子ビームが試料に当たると、試料表面に電荷の蓄積が生じ、充電と放電効果が形成され、画像の観察と写真記録に影響を与える。そのため、観察する前に導電処理を行い、サンプル表面を導電させなければならない。一般的な方法は、イオンスパッタを使用してサンプルに金をスプレーすることです。

第二に、電極を作製する。金電極、銀電極、白金電極を含むスパッタ装置によりいくつかの電極を作製した。特にマグネトロンスパッタリングの低温の特徴を利用して、薄膜上に電極及び金めっき膜を作製する。