粉末ALDメーカー

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モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

粉末ALDメーカ（Atomic layer deposition）は、気相前駆体パルスを反応チャンバ内に交互に通過させ、堆積基体上に化学吸着して反応させることにより堆積膜を形成する技術であり、自己制限性と自己飽和を有する。原子層堆積技術の主な応用は各種の寸法と形状の基板上に高精度、ピンホールなし、高保形のナノ薄膜を堆積することである。

製品詳細

一、粉末ALDメーカーコアパラメータ：

価格帯：100万-200万

産地別：国産原子層堆積システム（ALD）

基板サイズ：10 g-1000 g粉末

プロセス温度：RT-300℃

前駆体数：2群反応ガス8群液状又は固体反応前駆体

重量：300 KG

サイズ（WxHxD）：1150＊1030＊1850 mm

均一性：粉末表面に均一原子層被覆を実現し、被覆均一性<3%

二、原子層堆積（Atomiclayerdeposition）は、気相前駆体パルスを反応チャンバ内に交互に通過させ、堆積基体上に化学吸着し、反応させることによって堆積膜を形成する技術であり、自己制限性と自己飽和を有する。原子層堆積技術の主な応用は各種の寸法と形状の基板上に高精度、ピンホールなし、高保形のナノ薄膜を堆積することである。

三、粉末ALDメーカーの製品説明：

アモイ・テルモゲンテクノロジー社のGMシリーズ自動粉末原子層堆積装置は、マイクロナノ粉体上で均一で制御可能な原子層堆積または分子層堆積成長を実現することができ、GM 1000の反応室はALD（原子層堆積）またはMLD（分子層堆積）を自動的に実行することができ、装置は独立に制御された300℃完全加熱反応チャンバシステムを備え、プロセス温度の均一性を保証する。このシステムは粉末サンプルバケツ、動的粉末流動化機構、全自動温度制御、ALD前駆体源鋼ボトル、自動温度制御弁、工業級安全制御、及び現場RGA、QCM、オゾン発生器、手袋箱などの設計オプションを有する。*エネルギー材料、触媒材料、新型ナノ材料の研究と応用の最適な研究開発ツールである。

四、アフターサービス：

保証期間：1年

保証期間を延長できるかどうか：No

現場技術コンサルティング：有

無料トレーニング：1.設備出荷前に、少なくとも2人1週間の設備原工場トレーニングを提供する。2.設備は現場で設置調整を完了する

無料機器保守：手配できる必要がある

保証内修理承諾：保証期間内（天災と人為的損害を除く）部品、部品費用、出張費用はすべて我が社が負担する

修理承諾：品質保証期間内に故障が発生した場合、弊社は直ちに対応し、8時間以内に技術者を現場に派遣して故障を解決する

五、技術パラメータ：

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