ポータブルプロジェクタ

ポータブルプロジェクタ透明媒体の様々な要因による外乱の分布、伝播過程及び外乱強度などを観察するために使用することができる。例えば、レーザーと物質の作用、層状流、多項流、熱伝達と物質伝達、衝撃波、超音波速流、燃焼、火炎、爆発、プラズマ、内弾道及びいくつかの化学反応などの学科を研究する流場密度変化科学研究。例えば、レーザーと物質の作用、層状流、多項流、熱伝達と物質伝達、衝撃波、超音波速流、燃焼、火炎、爆発、プラズマ、内弾道及びいくつかの化学反応などの学科を研究する流場密度変化科学研究。テプラ紋影計は伝統的で、*を使用する一種です。

技術パラメータ：

その中の主な反射鏡光学材料：K 9光学ガラス、応力≦2、加工面型精度＜1/10λ、反射面真空アルミニウムめっき、シリカ保護膜めっき。小反射鏡表面にアルミニウム真空めっき、シリカ保護膜めっき、反射係数≧90%、面型精度＜1/10波長。

このシステムの主要な光機部品は主に光源スリットシステム、主球面反射鏡装調機構、ナイフエッジイメージングシステムの3つの部分に分けることができる。ここで、光源スリットシステムとその中の1つの主球面反射鏡はコリメートシステムを構成し、ナイフエッジイメージングシステムとその中の1つの主球面反射鏡は紋影視システムを構成し、それぞれ2つのプラットフォーム上に配置される。

紋影法、紋影技術とも呼ばれ、黒、白紋影法、カラー紋影法、干渉紋影法を含み、紋影システムが流れ場の表示と測定を行うための一般的な光学的方法。紋影法はまずToeplerによって1864年に提案され、光学ガラスの屈折率の検出に応用された。

1952年、HoldとNorhtは紋影システム上で白色光の分光プリズムを使用し、カラー紋影成像を実現し、紋影技術の応用範囲を拡大した、1962年、Blandとpelickは紋影法を用いて水の圧力と温度効果を研究した後、紋影法は実際に水洞の流れ場表示に用いられ、1974年、Merzkirchは圧縮可能な流れ場における紋影技術を分類し、紋影システム上で行われた干渉紋影法の研究は、ラスタ干渉、プリズム干渉、Moire縞干渉などを含み、紋影技術に分類され、国内の同業者から認可された。