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西安太康生物科学技術有限公司
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プラズマ化学蒸着システム

交渉可能更新12/20
モデル
製造者の性質
プロデューサー
製品カテゴリー
原産地
概要
PECVDプラズマ化学蒸着システム。この製品は固体プラズマ源、ガス陽子流量制御システム、基板温度制御システム、真空システムからなり、集中バス制御技術を採用したノバディ操作ソフトウェアである。室温から1200℃の条件下でSiO 2、SiNx薄膜の堆積を行うのに適しており、同時にTEOS源堆積、SiC薄膜層堆積及び液体ガス源堆積の他の材料を実現することができ、特に有機材料上の高効率保護層膜と特定の温度での損傷のない不動態膜の堆積に適している。
製品詳細

PECVD はプラズマ化学蒸着システム

1. めっき膜の洗浄を一気に行い、二次汚染を防止する。

2. 上開き式構造で、試料の観察に便利である、

3. 製品は全自動制御方式、タッチスクリーン、デジタル表示を採用し、

4. 設備の一体化度が高い、

5. 安定した無線周波数電源、均一な温度分布、成膜品質を高める、

製品型番NBD-PECVD1200-80TI

電気仕様AC220V 4KW

到達可能温度1200

れんぞくおんど1150

到達可能加熱速度≦ 20 /

むせんしゅうはでんげん300または500W 13.56MHz

炉管寸法Φ80*1200ミリメートル

PECVD はプラズマ化学蒸着システム

せいぎょシステム

1NBD-101EP組み込みオペレーティングシステムにおける英語互換グラフィックスインタフェース、7寸法真彩タッチパネル入力、インテリジェントマンマシン対話モード、リアルタイム加熱電力表示、非線形仕様温度修正、実験報告は自主的に生成され、実験データは無限に導出される。

2、実験過程はより直感的で、操作はより便利である、3、超温警報、偶数切断提示、漏電保護などの機能を有する。

おんどせいど+/- 1

ヒータエレメントドープされたフェ-クロアル合金

シーリングシステム

真空度:≤10パ(メカニカルポンプ)

圧力測定と監視はデジタル真空計を採用し、設備の真空度をより直感的にし、実験結果をより正確にすることができる。

ガス供給システムは2ウェイ陽子流量計を用いてガス流速を正確に制御し、設備と一体化する、

正味重量360キログラム

設備使用上の考慮事項

1、設備炉の温度≧300℃の場合、火炉の開口を禁止し、損傷を避ける。

2、設備使用時、炉管内圧力は超えてはならない0.125MPa(絶対圧力)により、圧力が大きすぎて設備が損傷することを防止する。

3、真空下で使用する場合、設備の使用温度は超えてはならない800℃。

4、給気ガスボンベ内部の気圧が高く、炉管内にガスを通気する場合、ガスボンベには減圧弁を取り付けなければならず、試験用小圧力減圧弁を選択購入することを提案し、減圧弁の距離は0.01MPa-0.15MPa,使用するとより正確で安全です。

5、炉体の温度が高い場合1000℃の場合、炉管内は真空状態にあってはならず、炉管内の気圧は大気圧に相当し、常圧状態に維持する必要がある、

6、高純度石英管の長時間使用温度≦1100

7、加熱の実験時には、炉管フランジ端の抽気バルブと吸気バルブを閉鎖して使用することはお勧めしません。ガスバルブを閉じてサンプルを加熱する必要がある場合は、圧力計の示度に常に注目し、絶対圧力計の示度が0.15MPa、予期せぬ事態(炉管破裂、フランジ飛び出しなど)に備えて、直ちに排気端バルブを開けなければならない

サービス・サポート1年間品質保証を提供し、終身サポートを提供する(保証範囲内に消耗部品、例えば炉管やシールリングなどを含まない)。