オプスoptris耐高温赤外線温度計

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概要

オプスoptris耐高温赤外線温度計$r$nOPTCTLLThot耐高温プローブシリーズ赤外線温度計$r$noptris CThot LT型高温温度計は高温域の悪条件で設計され、高温に強いことで評価されている。ガンダム250#176;Cの周囲温度に赤外線温度計を使用し、冷却する必要はなく、問題も発生しない。$r$n上記の特徴のため、赤外線温度計は乾燥機、金属とガラスの工業焼戻し、プラスチックと織物の加工、半導体の生産に特に適している。

製品詳細

オプスoptris耐高温赤外線温度計

OPTCTLLThot耐高温プローブシリーズ赤外線温度計

optris CThot LT型高温温度計は高温域の悪条件下で設計されており、特に高温に強いことで評価されている。250°Cまでの周囲温度で赤外線温度計を使用し、冷却する必要はなく、問題も発生しない。

上記の特徴のため、赤外線温度計は特に乾燥機、金属とガラスの工業焼戻し、プラスチックと織物の加工及び半導体の生産に適している。

optris CThot LT型高環境温度専用高温温度計

製品仕様

測定パラメータ
温度レンジ（設定キーまたはソフトウェアで測定）	-40°C〜975°C
スペクトル範囲	8〜14 µm
光学分解能（90%エネルギー）	0:1；2:1
システム精度（注釈1）（リング温度＝23±5°C）	±1%または±1.5°C（注釈2）
繰り返し精度（注釈1）（リング温度＝23±5°C）	±0.5%or±0.5°C（注釈2）

温度分解能（ノイズ等価温度差）	0.25℃
レスポンス時間	100ミリ秒
放射率/利得（キーまたはソフトウェアを設定して調整）	0.100 ~ 1.100
透過率/利得（キーまたはソフトウェアを設定して調整）	0.100 ~ 1.100
シグナルプロセシング（キーまたはソフトウェアを設定することによりそれぞれ特定のパラメータを調整可能）	ピークホールド、谷ホールド、平均値、ホールド閾値とヒステリシス機能の延長
基本パラメータ
環境レベル	IP65（NEMA-4）
環境温度	プローブ：-20°C ~ 250°C、電子カセット：0°C ~ 85°C
保管温度	プローブ：-40°C ~ 250°C、電子カセット：-40°C ~ 85°C
相対湿度	10 ~ 95%、結露しない
振動	−IEC 60068−2−6（正弦波形）、-IEC 60068-2-64（広帯域ノイズ）
衝撃	-IEC 60068-2-27（25 Gと50 G）
重量	プローブ：40 g（大筐体なし）、電子カセット：420 g
電気パラメータ
アナログ出力	チャネル1：0／4−20 mA、0−5／10 V、熱電対J、K チャンネル2：プローブ温度（0-5 Vまたは0-10 V対応-40-250°C）、アラーム出力
アラーム出力	24 V/50 mA（常開）
オプション	リレー：2 x 60 V DC/42 V交流、0.4 A、光学的分離
デジタル出力（オプション）	USB、RS 232、RS 485（オプション）、Modbus RTU（シリアル通信プロトコル）、Profibus DP（フィールドバス多機能スレーブ設計）
出力インピーダンス	mA Max 500Ω（直流8-36 V）、mV Min 100 kΩ（純インピーダンス負荷）、熱電対20Ω
しんごうにゅうりょく	外部放射率設定/周囲温度補償、トリガ（保持機能リセット）のためのプログラマブル機能入力
ケーブル長	3 m（標準）、8 m、15 m
電源	直流8-36 V
でんりゅうしょうひ	最高 100 mA
コメント1	大きな値をとる
コメント2	物体温度≧20°C

オプスoptris耐高温赤外線温度計

モデル	おんどはんい	おんどそくていせいど	レスポンス時間	きょりけいすう	スペクトル応答
操作02 H	-40～975℃	±1%±1.5℃	100ms	2：1	8〜14μm
10時間の操作	-40～975℃	±1%±1.5℃	100ms	10：1	8〜14μm
動作10 HCF 1	-50～975℃	±1%±1.5℃	100ms	3mm@30mm	8〜14μm
動作温度	プローブ：-20～250℃、電子カセット：-20～85℃
アナログ出力	0/4～20 mA、0～5/10 V、J/K型熱電対信号出力
ディジタル出力	USB、RS232、RS485、CAN-Bus、Profibus DP、イーサネット可选
ほうしゃりつ	0.100～1.100ソフトウェア設定
接続ケーブル長	1 m、3 m、8 m、15 mオプション
しんごうしょり	ピークホールド、谷ホールド、平均値。
電力供給	8〜36VDC
アプリ	印刷、塗装、熱圧、乾燥、加硫、製紙、紡績、プラスチックフィルム、アスファルト、製薬、電力、研磨具、金属二次加工、熱処理、新材料、各種高温炉、溶鉱炉、焼結炉、誘導加熱、ガラス溶鉱炉、熱処理設備、各種ろう付け、レーザー溶接及び実験室研究

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