ビーム分析器、高解像度CMOS、広いスペクトルカバー、USB 3.0高速伝送、リアルタイム精密測定レーザ光スポット/エネルギー分布、過曝露、無曳影、適合レーザライン品質検査、設備集積、プラグアンドプレイ、安定耐久性、組み合わせ専門ソフトウェア、工業ロット量検査の需要を満たす。Ophirレーザスポット輪郭解析器センサの工業的検出
イスラエルOpher製工業級レーザービーム輪郭検出装置レーザー製造、レーザー加工設備のセット、生産ライン品質検査、科学研究実験などのシーンのために作られ、高精度、高安定性、集積しやすい特性で、レーザー業界の品質管理制御の核心検査ツールとなっている。装置は1/1.8インチ2048×1536高解像度グローバルシャッタCMOS、3.45μm小画素を採用し、最小34.5μmから最大5.3 mmのレーザー光スポットを捕捉でき、スペクトルは190-1100 nmをカバーし、紫外線、可視光、近赤外連続とパルスレーザーを互換し、伝統的なカメラ近赤外線曳影、過曝露問題を解決し、測定の信頼性を保証する。USB 3.0高速インタフェース、全解像度24 fpsリアルタイムイメージング、データ伝送に遅延がなく、外部トリガ同期をサポートし、生産ラインの自動化検査に適している、コンパクトな四角形ボディ、C型インタフェース、センサーの凹み設計で、設備内部や狭いステーションに設置しやすく、集積の柔軟性を向上させる。BeamGage専門ビーム分析ソフトウェアを標準装備し、光スポットサイズ、楕円度、均一性、発散角などのパラメータ測定をワンタッチで完成し、データは導出、遡及でき、業界標準に符合する、設備は高耐損傷能力、広温度作業(0-50℃)を備え、複数の国際コンプライアンス認証を取得し、長期運行が安定し、メンテナンスが簡単である。輸入原装検査設備として、性能が安定し、精度が信頼でき、レーザ生産の良率を効果的に高め、品質検査コストを低減し、工業と科学研究分野のレーザ検査の好ましい方案である。
| パラメータ項目 |
規格指標 |
|
|
| 感光チップ |
シリコンCMOS、グローバルシャッター |
| 有効ピクセル |
2048×1536 |
| 波長範囲 |
190~1100ナノメートル |
| スポットそくてい |
34.5ミクロン~5.3 mm |
| データインタフェース |
USB 3.0 |
| フレームレート |
24フレーム/秒 |
| ダイナミックレンジ |
72デシベル |
| トリガモード |
ハードウェア/ソフトウェアトリガ |
| 作動温度 |
0–50℃ |
| 認証 |
CE、UKCA、中国RoHS |


Ophirレーザスポット輪郭解析器センサの工業的検出Ophirレーザスポット輪郭解析器センサの工業的検出