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wulihua@cinv.cn
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電話番号
18019703828
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アドレス
上海市浦東新区浦東南路2250号A席301室
上海西努光学科学技術有限公司
wulihua@cinv.cn
18019703828
上海市浦東新区浦東南路2250号A席301室
MTSシリーズ三次元形態測定装置:スペクトル共焦点センサ構造
スペクトル共焦点変位センサは、光学分散原理により距離と波長の対応関係を確立し、スペクトル情報をスペクトル計を用いて復号し、位置情報を得る装置である。
スペクトル共焦点変位センサシステムでは、
システムの測定範囲は4つの要素によって影響されます。
1.光源スペクトル分布範囲
2.動作帯域範囲における分散レンズの軸方向色差
3.分光器の動作帯域
4.光ファイバカプラの動作帯域

スペクトル共焦点の利点
多機能スペクトル共焦点センサ
私たちの光潜り共焦点センサは高品質光学レンズを通じて、単一の点ではなく氷光軸に沿って異なる距離で白色光に焦点を合わせ、すべての可視光帯域が焦点にある。この多機能な光センサは、雯技術を測定するために新しい次元を開発した。
・いかなる材料でも試験可能-非透明/透明材料、拡散反射/反射、吸収、カラー、粗さ/研磨
・同軸テストにより影の影響を回避
・斜面受容度と開口数により、測定可能角度が反射面で45°、拡散率面>80°に達することができる
・Z軸解像度と精度-Z軸スキャンでテスト結果を取得する必要はなく、各テストポイントに1つのテスト値を渡すことができます
・超高速試験速度の多点アレイセンサにより多点平行試験を可能にする
・小さく一定のスポットサイズで高い横方向分解能を実現
・光学プローブは受動的であり、部品を移動したり、電気を埋め込む必要がない
Road-高い熱安定性、長時間の信頼性、再現性を保証

測定方式の比較
デジタル顕微鏡
-表面形態は被写界深度の重畳が必要で、速度が遅い-視野が小さい
-走査精度はZ軸モータと対物レンズの被写界深度に依存する
レーザ共焦点系顕微鏡
-表面形態は層ごとにスキャンする必要があり、速度が遅い-視野が小さい
-人的データ測定
三角反射型スペクトル共焦点
-Z軸の解像度が低い
-スキャンは盲点になりやすい
-透明マテリアルとスペキュラマテリアルの効果が低い
白色光干渉
-使用コストとメンテナンスコストが高い
-大きなサンプルや起伏の大きいサンプルには不向き
-表面が粗いサンプルでは効果がありません
MTSの利点
非接触型非破壊測定
最大20 nmのZ軸分解能
被写界深度の重畳加速度を高速化する必要はありません
試料表面反射率は制限されない
表面3 Dのすべての情報を提供する
カスタムスキャン可能領域
アクセス可能Q-DTS
西励アボカドAIへのアクセスが可能








MTSシリーズ三次元形態測定装置技術仕様
MTS 01 |
MTS 02 |
|||||
|
光学モジュール |
レンジ1/mm |
0.2 |
1 |
0.24 |
0.6 |
10.6 |
ポイント/線 |
192 |
1200 |
||||
線長/mm |
0.96 |
1.91 |
1.18 |
2.36 |
11.9 |
|
点間隔/μm |
5 |
10 |
0.98 |
1.97 |
9.9 |
|
Z軸分解能/nm |
20 |
80 |
25 |
50 |
800 |
|
精度2/nm |
±80 |
±300 |
±125 |
±250 |
±4000 |
|
|
よんじくでんどうプラットフォーム |
サンプリングレート/Hz |
6000 |
36000 |
|||
XY軸ストローク/mm |
350X350 |
|||||
XY軸位置決め精度/μm |
±0.3 |
|||||
XY軸繰返し位置決め精度/μm |
±0.15 |
|||||
Z軸ストローク/mm |
5mm |
|||||
Z軸位置決め精度/μm |
±0.2 |
|||||
Z軸繰返し位置決め精度/μm |
±0.1 |
|||||
T軸位置決め精度 |
±2アークセック |
|||||
T軸繰り返し位置決め精度 |
±1 アークセク |
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走査速度/mm/s |
80 |
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|
2 D位置決めカメラ |
有効ピクセル |
2464×2056 |
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視野の大きさ |
8.6x7.2mm |
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光源 |
LEDスポット |
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ソフトウェアシステム |
スペクトル共焦点収集機能 |
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ナビゲーション図の収集、位置決め機能 | ||||||
Q-DTSデータ相互接続モジュール、アボカドAIをオプションで配合 | ||||||
2 D&3 D測定 |
長さ、幅、高さ、角度、体積などの測定ツール |
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コンピュータシステム |
カスタマイズ可能なソフトウェア機能 |
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レポート出力 |
Word、Excelなど |
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①2 kHz以上、試験レンジは周波数増加に伴い低下
②20°Cにおける垂直鏡面測定
与えられたデータは典型的なアプリケーションでのテストに由来し、他の特定の状況のテストとは異なります。後続の印刷エラー、改訂、更新により、表に記載されている技術パラメータとの違いも発生します。そのため、表中のこの製品から与えられた技術パラメータ、測定結果と情報の一致性は保証されていません。