低温フラッシュ成膜器

低温フラッシュ成膜器 一定低温基板上でのペロブスカイト中間状態薄膜の成長制御に基づいて結晶化を遅くする

プロセス、それによって大規模な高品質の均一ペロブスカイト薄膜の製造を実現し、同時に環境温度が薄膜品質に与える影響を回避した。

コア作用 精密な低温制御、熱感受性材料の制限を突破する（-5°C低温成膜）

☆ペロブスカイト前駆体の熱分解を効果的に抑制し、熱感受性材料を保護する

☆結晶化速度を遅らせ、ピンホール、粒界などの薄膜欠陥を減少させ、Sn-Pb狭バンドギャップペロブスカイトなどの誘起密度を向上させる

☆PETなどの材料の変形を避けるためにフレキシブル基材を配合するとともに、有機輸送層との界面相互溶解を減少させ、フレキシブル基材とヘテロ接合を配合するのに適している

☆精密温度制御により大面積フィルム成分の均一性を確保し、根本的に溶液法でよく見られる「コーヒーリング」効果を除去し、高繰り返し性の高品質成膜を実現する

核心技術優勢：真空フラッシュ技術に基づいて、-5°C ~ 90°Cの正確な温度制御機能を備えている。その気流案内室の設計は急速に真空環境を構築することができ、

材料の瞬時気化と低温基板上の高効率成膜を実現し、高品質ペロブスカイト薄膜の製造のために最適化され、ペロブスカイト太陽電池（PSCs）によって製造された重要なプロセスデバイス。

低温フラッシュ成膜器JW-100DW

技術パラメータ：

1. 外形寸法：約370 X 230 X 260 mm

2.限界真空度：＜5Pa

3. キャビティ高さ 20mm

4.最速抽気速度：10秒から10 Pa内（揮発性試薬を含まない空荷状態）

5. 基板サイズ：100*100 mm以内の基板は最大で厚さ15 mmのサンプルを置くことができ、

6. サンプル台の大きさ：130 x 130 mm、Ф100mm

7. 温度制御範囲：-5℃から90℃

8. 抽気インターフェース：設備の後ろの出口KF 25インターフェース、

9. 吸気ポート：破真空気路6 mm快挿ポート

10. 冷凍機 こうでんあつにゅうりょく 220-240VAC1.4Kw

11.標準配置オイルポンプ抽気速度：24立方メートル/時間（より大電力オプション）

12. オペレーティングシステム：5インチカラータッチスクリーン、必要に応じて高速吸引または定電圧モードを選択可能

13.ホスト電源入力：AC 220 V、150 W、

14.機械全体の重量：21 KG