レーザガス分析器工業プロセスガス

レーザガス分析器工業プロセスガス レーザー吸収スペクトル技術に基づいて、工業過程におけるガス成分と濃度をオンラインで監視するための計器であり、迅速、正確、耐干渉などの優位性がある。以下に説明します。

動作原理

主にランベルト・ビルの法則に基づいて、レーザー光がガスに選択的に吸収されることを分析することによってガス濃度を得る。半導体レーザ光が被測定ガスを通過すると、その光強度はガスの吸収によって減衰し、ガス濃度が高いほど光強度減衰が大きくなり、光強度減衰の程度を測定することでガス濃度が得られる。

技術的特徴

耐干渉能力が強い：背景ガスの交差干渉を受けず、粉塵や窓汚染の影響も受けない。

自動補償：温度、圧力が測定に与える影響を自動的に修正し、測定の正確性を保証することができる。

応答が速い：応答時間は1秒未満であり、リアルタイムでガス濃度の変化をオンラインで監視することができる。

測定範囲は広い：検出範囲は極めて広く、PPBから%の濃度範囲まで分析できる。

主なタイプ

その場型：レーザーのその場測定、応答速度が速く、測定精度が高い。集積式正圧防爆設計で、安全で信頼性があり、かつモジュール化設計は現場で機能モジュールを交換しやすく、メンテナンスが便利である。

バイパスタイプ：レーザーバイパス測定、測定精度が高く、耐干渉能力が強い。光学非接触測定では、高温、強腐食性ガスを直接測定することができ、バイパス処理装置は簡単で信頼性があり、プロセスパイプに直接取り付けることができる。

分布型：分布式レーザー測定、8つの測定チャンネルを支持し、性価比が高い。測定チャンネルには独立したレーザー測定モジュールがあり、信頼性が高く、ネットワーク化された集中表示と制御ができ、監視が便利である。

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