その場レーザプロセスガス分析装置

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モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

その場レーザ過程ガス分析器は可変同調半導体レーザ吸収分光技術（TDLAS）に基づく高性能光学分析装置であり、対射式設計を採用し、工業過程ガス制御に用いることができる、その応答時間は迅速で、その場式測定では一般的に秒で計算し、サンプリング式測定による時間遅延を回避し、オンラインでタイムリーな反応測定ガス濃度を可能にする。

製品詳細

その場レーザプロセスガス分析装置GasTDL-3100は可変同調半導体レーザ吸収分光技術（TDLAS）に基づく高性能光学分析機器であり、対射式設計を採用し、工業プロセスガス制御に用いることができる、その応答時間は迅速で、その場式測定では一般的に秒で計算し、サンプリング式測定による時間遅延を回避し、オンラインでタイムリーな反応測定ガス濃度を可能にする。

　　その場レーザプロセスガス分析装置製品の特徴：

1、TDLAS技術を採用し、被測定ガスは背景ガスの交差干渉を受けない

2、その場で設置し、サンプリング前処理システムを必要としない

3、応答が速く（T 90≦1 s）、リアルタイム反応ガス濃度

4、リアルタイムオンライン測定、ガス濃度は歪みにくく、測定精度が高い

5、高温、高粉塵、高水分、高腐食性、高流速などの劣悪な測定環境下で良好な適応性を持つ

6、防爆設計、安全係数が高い

7、構造が簡潔で、可動部品がなく、損失部品がなく、メンテナンスフリー

原位激光过程气体分析仪

技術パラメータ：

パフォーマンスパラメータ
測定成分	O2、CO、CO2、CH4*
そくていげんり	TDLAS は
テスト範囲	O 2：（0～5）%VOL（カスタマイズ可能100%） CO:（0〜100）%VOL 二酸化炭素：（0〜100）%VOL CH4:（0〜20）%VOL
せいど	≤±1%F.S。
くりかえしせい	≤±1%
レンジドリフト	≤±1%F.S。
解像度	0.01%体積
レスポンス時間	T90≤1s
さぎょうパラメータ
防爆等級	元db IIC T6 Gb/元tb IIIC T80℃ Db
取り付け方法	ホームマウント
環境温度	（-20～ +60）℃
動作電源	24V DC、24W
パージガス	（0.3～0.8）MPa工業用窒素ガス
インタフェース信号
通信	RS485、RS232
出力モード	2ウェイ4-20 mA出力 3ウェイリレー出力
*注記：各分析計は単一成分ガス濃度を測定する

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