研磨液大粒子液体粒子カウンタ

研磨液大粒子液体粒子カウンタ

研磨液大粒子液体粒子カウンタ製品紹介：商用統合回路の製造の鍵は、化学機械平坦化（CMP）によりシリコンウェハ表面を原子平坦度に近い研磨スラリー粒子に研磨する物理的及び化学的性質に依存する。研磨スラリー（Slurry）にはシリカ、アルミナなどの比較的少ない＞1.0μmの粒子が含まれており、これらの粒子はウエハ表面の平坦化処理時に微小な傷を負う可能性がある。したがって、研磨スラリー粒子の大粒子数（LPC）はCMPプロセスにおける重要な要素である。

ディジタル検出原理待ち：測定液は流通池を流れ、流通池の両側に光学ガラスが設置され、レーザの光束はレンズ群を通じてコリメートされ、光束は流通池を通過し、光トラップに照射される。測定すべき液体に粒子がなければ、光検出器は光信号を受信できない。液体に粒子があれば、粒子は流通池を通過し、レーザービームと遮蔽または散乱現象が発生する。ある角度（またはいくつか）における遮蔽信号と散乱信号はレンズを通じて光検出器に集められ、正の電気信号パルス、パルス信号の振幅と光強度は比例する。信号の振幅と個数に基づいて液体中の微粒子を計数検出することができる。光抵抗法は主に2μm以上の大きな粒子を検出し、光散乱法は主に2μm以下の粒子を検出する。2つのモードの巧みな融合検出は、粒子の検出範囲をより広く、精度を高め、粒子を逃げ場なくする。PLD-FX-801液体粒子計数器は光散乱法と光抵抗法のデュアルモードの検出原理に基づいて、普洛帝コア技術の第8世代デュアルレーザー狭光粒子検出センサ、デュアル精密流量制御とオフラインでの自動希釈システムを採用して、研磨液中の不良粒子及びこれらの粒子の濃度を評価することができる。PLD-FX-801液体粒子計数器は、システム中の粒子汚染源を確認し、ろ過の有効性を評価し、不良粒子を選択することによるリスクを減らすのに有効である。

ディジタルの一般的な用途：適用＃テキヨウ＃ CMP POU供給前段−供給装置のFinal outでSlurry内のscratch&defectを引き起こすLarge Particleが検出され、事故の発生を予防し、検出区分Slurry good/bad test，good/bad slurryに応用し、供給側で分析して事故の発生を予防する、電子半導体業界の純水中粒子モニタリング分析に応用する、電子半導体業界の電子化学品における粒子モニタリング分析に応用する、浄水場の浄水、製鉄所の回収水、水道用水などに応用する。

性能特徴のデュアルモード式：粒子を逃げ場なくする検査原理、0.5 ~ 100μmの標準粒子サイズ、超広範な粒子モニタリング範囲、正確な流量制御により、監視データをより一定で安定させることができる。オフライン自動希釈システムでは、超高濃度粒子に適している、高い流速は迅速な洗浄時間とシステムの清浄度を保証し、機器の一体化設計故障率は、低メンテナンスコストを保証し、ラテックスボールの較正は、NIST基準にさかのぼることができる、柔軟に制限値アラームを設定し、動的変化への応答が速い、柔軟な通信方式を選択し、工場の現代化管理を実現することができる、

技術仕様

センサー：第8世代デュアルレーザー狭光検出器（より正確、より安定、より迅速）

∝試験原理：光抵抗と光散乱二重モード

∝試験サンプル：水と有機溶媒

∝検出範囲：0.5～100μm

∝チャネル数：1000チャネルを任意に16個設定可能

∝検出時間：5 s～カスタム

∝粒径精度：≥90%

∝サンプリング精度：±1%

∝サンプリング流速：5 mL/min～150 mL/min

∝測定方式：オンライン/オフライン、希釈/直接

∝警報方式：音響光警報器、液漏れ警報、粒子制限警報

∝制御システム：Windowsオペレーティングシステム

∝通信方式：標準配置TCPIP、オプション：RS 232/RS 485/4-20 mA

構成の注文

標準構成：

ホスト一式を検出する、

工場出荷時の紙の書類一式。

入口圧力調整モジュール。

応用事例

オンラインまたはオフラインで測定する場合は、 Match供給装置filter交換時やchargeなどの供給装置Eventの変化によるLPC Dataは、SlurryのGradeを効果的に監視することができる。