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アドレス
上海閔行区元江路5500号
製品分類
上海麦科威半導体技術有限公司
概要
ブランド：Elionix$r$n$r$n$r$nモデル：ELS-F 125/F 100/HS 50$r$n$r$n$r$r$n$r$n電子ビーム露光、電子ビーム直写、電子ビームリソグラフィー$r$n$r$n$r$n$n用途：電子ビームを利用してエッチング防止剤にナノレベルのパターンを書き、ELB装置による露光と現像により、SB-10 nmの微細構造の加工に使用できる。
製品詳細
プロフィール
ELS-F 125はElionixが加速電圧125 KVまでの電子ビーム露光システムの1つであり、線幅下限5 nmの微細パターンを加工することができる。（以下のパラメータはELS-F 125に基づく）
MELS−F 125は、以下の利点を有する。
l超高書写精度
-5 nm線幅精度@125 kV
-1.7 nm電子ビーム径&近接効果最小化@125 kV
l高フラックス、均一性が良い
-超大視野書き：500 um視野下10 nm線幅
-高ビーム流下の電子ビーム径は依然として小さく、分解能に影響を与えずに高フラックス、2 nm電子ビーム径@1 nA
lインタフェースユーザーフレンドリー
Windowsシステムに基づくCADとSEMインタフェース：
-シンプルで使いやすいデザイン機能
-制御しやすい電子ビーム条件
二、主な機能
l主な応用
ナノデバイスの微細構造
集積光学素子、例えばラスタ、フォトニック結晶など
NEMS構造、複雑微細構造
フォトマスクテンプレート
l技術能力
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