ADEPT-1010は、浅い層の半導体注入と絶縁膜の自動分析のために設計され、ほとんどの半導体開発と研究室を支援するための一般的なツールである。最適化された二次イオン収集光学系と超高真空設計により、薄膜構造検出におけるドーピング成分と一般的な不純物に必要な感度を提供する。
動的二次イオン質量分析計(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry、略称D-SIMS)は固体材料の成分分析に用いる高感度表面分析技術である。
ADEPT-1010は、浅い層の半導体注入と絶縁膜の自動分析のために設計され、ほとんどの半導体開発と研究室を支援するための一般的なツールである。最適化された二次イオン収集光学系と超高真空設計により、薄膜構造検出におけるドーピング成分と一般的な不純物に必要な感度を提供する。
動作原理:
動的二次イオン質量分析計は、集束された高エネルギー一次イオンビーム(例えばO⁺、Cs⁺、Ar⁺など)を用いてサンプル表面を衝撃することにより、サンプル表面の原子または分子をスパッタする。この過程で、部分的にスパッタされた粒子は帯電し、二次イオンを形成する。これらの二次イオンは収集され、質量分析計に輸送されて分析され、質量分析により試料の化学組成と元素分布を決定することができる。
