キューブビームスプリッタ

キューブビームスプリッタ

広帯域偏光ビーム分割立方、高出力レーザ線偏光ビーム分割立方、及びレーザ線偏光ビーム分割立方を含む。

1.広帯域偏光ビーム分割立方

広帯域偏光ビーム分割立方法は、一対の高精度直角プリズムから特殊な接着技術を経て作製された。その核心は、一方のプリズム斜面に広帯域偏光分光膜がめっきされ、S偏光（反射）とP偏光（透過）を効率よく分離できることにある。＊優性エネルギーを実現し、接着層を保護するために、入射光は分光膜めっきされたプリズム直角面から入射すべきである。この入射面は上部の永久研磨マークによって明確に識別されている。立方体の各通光面には広帯域増透膜（Ravg<0.5%）がめっきされ、動作帯域全体で低損失伝送を実現することを確保している。

（1）広帯域偏光ビーム分割立方、増透膜：420 nm-680 nm

（2）広帯域偏光ビーム分割立方、増透膜：620 nm-1100 nm

（3）広帯域偏光ビーム分割立方、増透膜：900 nm-1300 nm

（4）広帯域偏光ビーム分割立方、透過膜：1200 nm-1600 nm

2.高出力レーザ線偏光ビーム分割立方

高出力レーザ線偏光ビーム分割立方は一対の紫外溶融石英直角プリズムを用いて構成され、そのうちの一枚のプリズムの斜面には高性能誘電体偏光分光膜がめっきされ、他の一枚の斜面には精密研磨処理が施されている。レーザー光の効率的な伝送を確保するために、4つの直角面にはすべて動作波長に最適化されたV型増透膜がめっきされ、反射率は0.25%未満である。2枚のプリズムは精密光ゴムプロセスによって結合され、高出力条件下でのアセンブリの安定性と耐久性を保証した。

この偏光ビーム分割立方は入射レーザ光を2つの直交する直線偏光に分離することができ、P偏光は効率的に透過し、S偏光は高反射される。製品は設計の中で特に光路構造を最適化し、最適な偏光分光効果を実現するために、レーザー光が偏光分光膜めっきされたプリズム直角面から入射することを提案し、この時の消光比（Tp/Ts）は2000：1以上に達し、高精度偏光制御の需要を満たすことができる。

3.レーザ線偏光ビーム分割立方

レーザ線偏光ビーム分割立方は、P偏光とS偏光を正確に分離するために設計された高性能レーザ光学素子である。それは一対の紫外段溶融石英直角プリズムから構成され、重要な界面に特定の誘電体分光膜がめっきされ、入射レーザー光を伝播方向が互いに垂直な2本の直交線偏光、高透過率のP偏光と高反射率のS偏光に効率的に分離することができる。

製品のコア特性：

·高偏光純度：優れた消光比（Tp：Ts＞3000：1）を備え、出射光束が*高い偏光純度を持つことを確保し、精密光学実験とシステムの要求を満たす。

·低光学損失：すべての4つの通光面には特定の波長のために設計されたV型増透膜がめっきされ、その設計波長における残留反射率は0.25%未満であり、効果的にシステムの通光効率を向上させる。

·正しい使用方法：最適な性能と長期信頼性を保障するために、分光膜めっきされたプリズムに明確な標識点がある。入射光はこの標識点を持つ直角面から入射し、レーザー光をまず分光膜に作用させ、レーザーエネルギーが光学接着剤中で複数回反射蓄積するのを回避することができ、これは中・高出力応用における安定性を維持する鍵である。

·良質な材料と構造：紫外溶融石英材料を採用し、低熱膨張係数と高レーザー損傷閾値を有し、立方体構造は堅固で安定しており、集積設置に便利である。

主な用途：

·光学アイソレータとリング

·偏光ビーム合成と分割システム

·干渉測定とセンシングシステム

·量子情報実験プラットフォーム

·各種精密レーザー加工及び検査設備

キューブビームスプリッタせんたくひょう