Coherent® LightSmyth™ナノパターンシリコン印鑑

交渉可能更新02/03

モデル

製造者の性質: プロデューサー

製品カテゴリー

原産地

オンラインコンサルト

概要

Coherent#174; LightSmythナノパターンシリコン印鑑$r$nナノスケールテクスチャ溝表面$r$n可変溝周期と溝深さ$r$nナノフォトニクス研究応用の理想的な選択

製品詳細

Coherent® LightSmyth™ ナノパターンシリコン印鑑

ナノスケールテクスチャ溝表面

可変ノッチ周期とノッチ深さ

ナノフォトニクス研究応用の理想的な選択

汎用仕様

コーティング：

未コーティング

構築：

RIE グレーティング

基底：

シングルクリスタルシリコン

表面品質：

60-40（CA内）

厚さ（mm）：

0.68 ±0.05

モデル

製品コード	期間 (nm)	寸法（mm）
16-855	855 ±42.75	12.50×12.50
16-856	855 ±42.75	25.00×25.00
16-857	139 ±6.95	12.50×12.50
16-858	139 ±6.95	25.00×25.00

詳細＃ショウサイ＃

Coherent® LightSmyth™ ナノパターンシリコンスタンプは、単結晶シリコン基板上にパターン化されたナノスケールのテクスチャ表面からなる。反応性イオンエッチングにより、従来の格子と同様に台形断面を有する線形溝が基板表面にエッチングされる。エッチングプロセスは、これらの溝に異なる周期的および深さ仕様、および格子などのより複雑なパターンを提供することができる。II-VI LightSmyth™ ナノパターンシリコン印鑑は光学とフォトニクス、生物学、化学、ナノインプリントとマイクロ流体分野のナノフォトニクス研究応用の理想的な選択である。

注意：II-VI IncorporatedはCoherent Corpに変更されました。

技術データ

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