チップ製造検出装置

チップ製造検出装置MRD高分解能X線回折計の信頼性の強化と性能の改善は分析能力を高め、異なる需要と応用を満たすための一体化ソリューションを提供する：
•半導体と単結晶ウエハ：逆空間探索、ロッキングカーブ解析
•多結晶固体と薄膜：組織分析、反射測定
•超薄膜、ナノ材料及びアモルファス層：すれすれ入射物相同定、面内回折
•非常温度条件下での測定：温度と時間によって変化するピークの高さ
チップ製造検出装置特徴：
X'Pert 3 MRDは専門的に設計され、現代材料研究開発実験室の要求に合致している。X'Pert 3 MRDの開発は薄膜応用の必要性を重点的に考慮したため、直径200 mmまでのウェハを収容でき、ウェハ表面の多点走査にも使用できる多種のサンプル棚を提供した。その大型サンプル台には複数のサンプルを積載することができる。

X'Pert 3 MRDは新しい技術を測角器軸受の設計と位置符号化に融合させ、全体的な性能を向上させた。角度計軸受への応用の革新的な成果は粘滑挙動を改善し、高負荷条件下でも極めて滑らかに回転移動することができる。omegaと2 theta軸に1*のHeidenhain光エンコーダを使用しているため、短距離と長距離の精度が向上し、位置報告と角計の位置決め速度が向上します。

X'Pert 3 MRDのオーラリーリングサンプル台は高精度、繰り返し可能で障害のない移動を実現でき、サンプルの回転、傾斜及びx軸、y軸とz軸の並進を容易に行い、要求の厳しいXRD応用のために用途が広く正確なサンプルの位置決めを実現することを確保する。
（事前キャリブレーションされ、迅速に交換可能なX線モジュール）概念により、MRDは再キャリブレーションなしで構成を交換することができる。実験要件が変更されると、新しいPreFIXコンポーネントを簡単に追加することができ、これにより、プログラム全体が柔軟になり、迅速になり、将来のニーズに対応できるようになります。次のような選択肢が豊富なPreFIXモジュールを提供できます。
X線平行光反射鏡
ふくけっしょうモノクロメータ
高分解能四結晶モノクロメータ
多毛細管レンズ
プログラム制御と固定の発散及び散乱防止スリット
クロススリットと単毛細管光学素子
プローブ製品のポートフォリオが発展している。PIXcel 3 D検出器は半導体と薄膜の応用における特殊な優位性を持っており、この検出器は完全な多機能性を備えており、ビーム減衰を行うことなく高ダイナミックレンジの測定を実現することができる。PIXcel検出器は、0 D受信スリットモードから1 Dおよび2 D静的およびスキャンモードに簡単に切り替えることができるさまざまなアプリケーション要件に使用できます。
アプリ
半導体及び単結晶ウエハ
成長研究に用いても設備設計に用いても、高分解能XRDを用いて構造層の品質、厚さ、応力、合金成分を測定する過程はすでに電子と光電子多層半導体装置の研究開発の核心となっている。
X'Pert 3 MRDとX'Pert 3 MRD XLは、さまざまな選択可能なX線ミラー、モノクロメータ、検出器を使用して、異なる材料システムに適応するための高解像度構成を提供します。格子整合半導体から緩和緩衝層、そして非標準基板上の新しい外来層まで。

多結晶固体と薄膜
多結晶薄膜及びコーティングは、多くの薄膜及び多層膜装置の重要な構成要素である。堆積過程における多結晶層形態の進展は機能材料の開発の重要な研究分野である。
X'Pert 3 MRDとX'Pert 3 MRD XLは、反射測定、応力、テクスチャ、物相同定試験の必要性を満たすために、スリットシステム、平行光X線反射鏡、多毛細管レンズ、交差スリット、単毛細管などの一連の入射光路部品を全面的に装備することができる。

超薄膜、ナノ材料、およびアモルファス層
機能装置は、無秩序、非晶質またはナノ複合材料薄膜を含むことができる。X'Pert 3 MRDとX'Pert 3 MRD XLシステムの柔軟性により、さまざまな分析方法を併用することができます。
すれすれ入射、面内回折、反射測定のためにより高い性能を実現することを確保するために、一連の高分解能光学素子、スリット、平板コリメータを提供することができる。

非常温度条件下での測定
様々な条件下での材料の変化を研究することは材料研究と過程開発において重要な構成部分である。

X'Pert 3 MRDとX'Pert 3 MRD XLは専門的な設計を経て、Anton Paarが提供するDHS 1100変温サンプル台を容易に統合することができ、それによって一連の温度範囲と不活性ガス環境下で自動的に測定することができる。